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用于区熔法制备单晶硅的加热线圈
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202011426075.8
申请日
:
2020-12-09
公开(公告)号
:
CN112359411A
公开(公告)日
:
2021-02-12
发明(设计)人
:
李聪
庞炳远
杨洪星
张伟才
郑万超
杨静
索开南
陈晨
王雄龙
申请人
:
申请人地址
:
300220 天津市河西区洞庭路26号
IPC主分类号
:
C30B1320
IPC分类号
:
C30B2906
H05B636
代理机构
:
天津中环专利商标代理有限公司 12105
代理人
:
李美英
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-03-05
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C30B 13/20 申请日:20201209
2021-02-12
公开
公开
共 50 条
[1]
一种用于区熔法制备单晶硅的加热线圈
[P].
李聪
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李聪
;
庞炳远
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庞炳远
;
杨洪星
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杨洪星
;
张伟才
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张伟才
;
郑万超
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郑万超
;
杨静
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杨静
;
索开南
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索开南
;
陈晨
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陈晨
;
王雄龙
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王雄龙
.
中国专利
:CN214327965U
,2021-10-01
[2]
一种用于区熔法制备硅单晶的加热线圈
[P].
刘嘉
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刘嘉
;
张雪囡
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张雪囡
;
王彦君
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王彦君
;
王遵义
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王遵义
;
孙健
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孙健
;
刘铮
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刘铮
;
涂颂昊
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涂颂昊
;
乔柳
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乔柳
;
冯啸桐
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冯啸桐
.
中国专利
:CN203049080U
,2013-07-10
[3]
一种用于拉制4寸区熔单晶硅加热线圈
[P].
刘剑
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刘剑
.
中国专利
:CN202658266U
,2013-01-09
[4]
一种用于拉制6寸区熔单晶硅加热线圈
[P].
刘剑
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刘剑
.
中国专利
:CN202658263U
,2013-01-09
[5]
一种用于拉制5寸区熔单晶硅加热线圈
[P].
刘剑
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刘剑
.
中国专利
:CN202658262U
,2013-01-09
[6]
一种区熔法生长单晶硅用高频加热线圈
[P].
韩海建
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韩海建
;
梁书正
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梁书正
;
梁开金
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梁开金
;
闫志瑞
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闫志瑞
;
谷宇恒
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谷宇恒
.
中国专利
:CN201545933U
,2010-08-11
[7]
区熔单晶硅炉
[P].
张志新
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张志新
;
王军
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王军
;
安桂正
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安桂正
.
中国专利
:CN2913390Y
,2007-06-20
[8]
一种用于多晶硅区熔的加热线圈
[P].
刘嘉
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刘嘉
;
张雪囡
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张雪囡
;
王彦君
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王彦君
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王遵义
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王遵义
;
孙健
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孙健
;
刘铮
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刘铮
;
涂颂昊
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涂颂昊
;
乔柳
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乔柳
;
冯啸桐
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冯啸桐
.
中国专利
:CN203049091U
,2013-07-10
[9]
一种颗粒硅直接用于区熔法制备单晶硅的装置
[P].
马新星
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马新星
;
王军磊
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王军磊
;
王艺澄
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王艺澄
.
中国专利
:CN217869173U
,2022-11-22
[10]
一种用于生长真空区熔硅单晶的加热线圈
[P].
庞炳远
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庞炳远
;
闫萍
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闫萍
;
张殿朝
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张殿朝
;
索开南
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索开南
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中国专利
:CN201620202U
,2010-11-03
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