用于真空等离子增强化学气相沉积的液体高温气化装置

被引：0

申请号：

CN202220783780.1

申请日：

2022-04-06

公开(公告)号：

CN217499410U

公开(公告)日：

2022-09-27

发明(设计)人：

苏宜鹏冼健威李南杰

申请人：

申请人地址：

523000 广东省东莞市长安镇乌沙社区振伟路6号二楼

IPC主分类号：

C23C1650

IPC分类号：

C23C16448 C23C1652

代理机构：

北京智行阳光知识产权代理事务所(普通合伙) 11738

代理人：

朱兴明

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-09-27	授权	授权

共 50 条

[1]

等离子增强化学气相沉积装置 [P].

郑建毅 ;

杨群峰 ;

庄明凤 ;

郑高峰 ;

马少宇 .

中国专利 :CN103789750B ,2014-05-14

[2]

等离子增强化学气相沉积设备 [P].

T·佩尔瑙 ;

S·H·舒尔茨 .

中国专利 :CN211947211U ,2020-11-17

[3]

等离子增强化学气相沉积装置 [P].

郑敬锡 ;

尤沙科夫·安德瑞 ;

朴宣美 ;

郑和俊 ;

金应秀 .

中国专利 :CN100529176C ,2007-03-07

[4]

用于制备低介电常数材料的等离子增强化学气相沉积装置 [P].

孙旭辉 ;

夏雨健 .

中国专利 :CN203774246U ,2014-08-13

[5]

用于制备低介电常数材料的等离子增强化学气相沉积装置 [P].

孙旭辉 ;

夏雨健 .

中国专利 :CN103887139A ,2014-06-25

[6]

一种等离子增强化学气相沉积装置 [P].

左桂松 ;

董晓清 .

中国专利 :CN212640605U ,2021-03-02

[7]

用于等离子增强化学气相沉积处理的处理装置 [P].

J·克什鲍默 .

:CN119213166A ,2024-12-27

[8]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

欧阳亮 .

中国专利 :CN120231033A ,2025-07-01

[9]

一种等离子增强化学气相沉积装置 [P].

左桂松 ;

董晓清 .

中国专利 :CN111850519A ,2020-10-30

[10]

等离子增强化学气相沉积的方法及系统 [P].

范振华 .

中国专利 :CN101965417A ,2011-02-02

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