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半导体发光元件及其制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200710197023.6
申请日
:
2004-09-10
公开(公告)号
:
CN100573947C
公开(公告)日
:
2008-05-07
发明(设计)人
:
谢明勋
蔡嘉芬
申请人
:
申请人地址
:
中国台湾新竹市
IPC主分类号
:
H01L3300
IPC分类号
:
H01L5150
H01L5156
H01S500
H05B3312
H05B3310
代理机构
:
北京市柳沈律师事务所
代理人
:
陶凤波
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2008-07-02
实质审查的生效
实质审查的生效
2009-12-23
授权
授权
2008-05-07
公开
公开
共 50 条
[1]
半导体发光元件及其制造方法
[P].
谢明勋
论文数:
0
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0
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谢明勋
;
蔡嘉芬
论文数:
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蔡嘉芬
.
中国专利
:CN100364121C
,2006-03-15
[2]
半导体发光元件及其制造方法
[P].
山本淳平
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山本淳平
;
生田哲也
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生田哲也
.
中国专利
:CN111971805A
,2020-11-20
[3]
半导体发光元件及其制造方法
[P].
山本淳平
论文数:
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山本淳平
;
生田哲也
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生田哲也
.
中国专利
:CN110088921A
,2019-08-02
[4]
半导体发光元件及其制造方法
[P].
谢明勋
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0
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谢明勋
;
陈威佑
论文数:
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陈威佑
;
张利铭
论文数:
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张利铭
;
王健源
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王健源
;
姚久琳
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姚久琳
.
中国专利
:CN102437261A
,2012-05-02
[5]
半导体发光元件及其制造方法
[P].
山本淳平
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机构:
同和电子科技有限公司
同和电子科技有限公司
山本淳平
;
生田哲也
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机构:
同和电子科技有限公司
同和电子科技有限公司
生田哲也
.
日本专利
:CN111971805B
,2024-12-27
[6]
半导体发光元件及其制造方法
[P].
森健太郎
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森健太郎
;
铃木健之
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铃木健之
;
松尾美惠
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松尾美惠
;
关口正博
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关口正博
;
加贺广持
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加贺广持
.
中国专利
:CN105990473A
,2016-10-05
[7]
半导体发光元件及其制造方法、半导体元件及其制造方法
[P].
平尾直树
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平尾直树
.
中国专利
:CN101887937A
,2010-11-17
[8]
半导体发光元件晶片、半导体发光元件及其制造方法
[P].
牧野浩明
论文数:
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0
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牧野浩明
.
中国专利
:CN105390579A
,2016-03-09
[9]
半导体发光元件的制造方法以及半导体发光元件
[P].
樱井哲朗
论文数:
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樱井哲朗
.
中国专利
:CN102265415A
,2011-11-30
[10]
半导体发光元件及其制造方法、半导体发光装置及其制造方法
[P].
永井洋希
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机构:
新唐科技日本株式会社
新唐科技日本株式会社
永井洋希
;
中谷东吾
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机构:
新唐科技日本株式会社
新唐科技日本株式会社
中谷东吾
;
久纳康光
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机构:
新唐科技日本株式会社
新唐科技日本株式会社
久纳康光
;
山田笃志
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机构:
新唐科技日本株式会社
新唐科技日本株式会社
山田笃志
;
荒木刚
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机构:
新唐科技日本株式会社
新唐科技日本株式会社
荒木刚
.
日本专利
:CN120051903A
,2025-05-27
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