曝光装置、掩模及光学膜

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201280076086.5

申请日：

2012-10-26

公开(公告)号：

CN104685417B

公开(公告)日：

2015-06-03

发明(设计)人：

梅泽康昭佐藤达弥浦和宏渡部贤一角张祐一

申请人：

申请人地址：

日本新泻县

IPC主分类号：

G03F722

IPC分类号：

G02F113 G02F11337 G03F138 G03F720

代理机构：

北京路浩知识产权代理有限公司 11002

代理人：

谢顺星;张晶

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-07-01	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101615754671 IPC(主分类):G03F 7/22 专利申请号:2012800760865 申请日:20121026
2017-06-27	授权	授权
2015-06-03	公开	公开

共 50 条

[1]

掩模单元及曝光装置 [P].

名古屋淳 .

日本专利 :CN110018609B ,2024-03-26

[2]

掩模单元及曝光装置 [P].

名古屋淳 .

中国专利 :CN110018609A ,2019-07-16

[3]

光掩模及曝光装置 [P].

野村义昭 ;

竹下琢郎 ;

桥本和重 .

中国专利 :CN102902155B ,2013-01-30

[4]

掩模传输装置、曝光装置及掩模传输方法 [P].

王长刚 ;

姜杰 .

中国专利 :CN105807574B ,2016-07-27

[5]

掩模曝光用紫外曝光装置 [P].

胡斌 ;

莫大洪 ;

原保平 ;

于天来 ;

王培新 .

中国专利 :CN213750656U ,2021-07-20

[6]

无掩模曝光装置 [P].

押田良忠 ;

小林和夫 .

中国专利 :CN101398631B ,2009-04-01

[7]

无掩模曝光装置 [P].

千田丽誉 .

中国专利 :CN202306138U ,2012-07-04

[8]

无掩模曝光装置 [P].

田卷纯一 .

中国专利 :CN104246615A ,2014-12-24

[9]

无掩模曝光装置 [P].

押田良忠 ;

内藤芳达 ;

铃木光弘 .

中国专利 :CN101526743A ,2009-09-09

[10]

投影曝光用掩模、投影曝光装置、及投影曝光方法 [P].

饭塚和央 ;

磯端纯二 ;

田中信义 .

中国专利 :CN100343759C ,2004-08-11

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