共 50 条
[11]
[12]
[13]
[14]
[15]
[16]
[17]
[18]
[19]
[20]
曝光装置、掩模及光学膜
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201280076086.5
申请日：
2012-10-26
公开(公告)号：
CN104685417B
公开(公告)日：
2015-06-03
发明(设计)人：
梅泽康昭
佐藤达弥
浦和宏
渡部贤一
角张祐一
申请人：
申请人地址：
日本新泻县
IPC主分类号：
G03F722
IPC分类号：
G02F113
G02F11337
G03F138
G03F720
代理机构：
北京路浩知识产权代理有限公司 11002
代理人：
谢顺星;张晶
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
引用
下载
收藏
法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2015-07-01 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101615754671 IPC(主分类):G03F 7/22 专利申请号:2012800760865 申请日:20121026 |
| 2017-06-27 | 授权 | 授权 |
| 2015-06-03 | 公开 | 公开 |