掩模台、掩模台系统和曝光装置

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201910193195.9
申请日
2019-03-14
公开(公告)号
CN111694224A
公开(公告)日
2020-09-22
发明(设计)人
吴韦志
申请人
申请人地址
230001 安徽省合肥市蜀山区经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室
IPC主分类号
G03F720
IPC分类号
G01H1700
代理机构
上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294
代理人
孙佳胤;高德志
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
掩模台、掩模台系统和曝光装置 [P]. 
吴韦志 .
中国专利 :CN209433186U ,2019-09-24
[2]
掩模台和包括掩模台的极紫外曝光装置 [P]. 
李相焕 ;
金度亨 ;
朴珍洪 ;
申河喆 ;
洪成哲 .
韩国专利 :CN118276413A ,2024-07-02
[3]
一种掩模台、曝光装置和光刻设备 [P]. 
杨若霁 ;
苏同克 .
中国专利 :CN113589652B ,2021-11-02
[4]
掩模台 [P]. 
洪京浩 ;
金明圭 ;
朴成晧 ;
朴庄坤 ;
兪硕范 ;
李东载 .
韩国专利 :CN117651464A ,2024-03-05
[5]
一种用于曝光装置的掩模台 [P]. 
江旭初 .
中国专利 :CN103376667B ,2013-10-30
[6]
曝光掩模和使用该曝光掩模的曝光方法 [P]. 
李树雄 ;
白尚润 .
中国专利 :CN1637594A ,2005-07-13
[7]
掩模台及包括掩模台的沉积设备 [P]. 
白大源 ;
金义圭 ;
赵荣善 .
韩国专利 :CN120989556A ,2025-11-21
[8]
掩模板温度控制装置和掩模曝光装置 [P]. 
张明辉 ;
周剑锋 ;
郑锋标 ;
张帅 .
中国专利 :CN111948907A ,2020-11-17
[9]
曝光装置和光掩模 [P]. 
畑中诚 .
中国专利 :CN102597880A ,2012-07-18
[10]
一种用于曝光的掩模台 [P]. 
李高荣 ;
刘洋 .
中国专利 :CN203825364U ,2014-09-10