一种用于曝光装置的掩模台

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201210119643.9

申请日：

2012-04-20

公开(公告)号：

CN103376667B

公开(公告)日：

2013-10-30

发明(设计)人：

江旭初

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张东路1525号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G03F900

代理机构：

上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人：

屈蘅;李时云

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-11-27	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101545323808 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2012101196439 申请日:20120420
2015-08-26	授权	授权
2013-10-30	公开	公开
2017-07-28	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101756294542 IPC(主分类):G03F 7/20 专利号:ZL2012101196439 变更事项:专利权人变更前:上海微电子装备有限公司变更后:上海微电子装备(集团)股份有限公司变更事项:地址变更前:201203 上海市浦东新区张东路1525号变更后:201203 上海市浦东新区张东路1525号

共 50 条

[1]

掩模台、掩模台系统和曝光装置 [P].

吴韦志 .

中国专利 :CN111694224A ,2020-09-22

[2]

掩模台、掩模台系统和曝光装置 [P].

吴韦志 .

中国专利 :CN209433186U ,2019-09-24

[3]

一种用于曝光的掩模台 [P].

李高荣 ;

刘洋 .

中国专利 :CN203825364U ,2014-09-10

[4]

一种掩模台、曝光装置和光刻设备 [P].

杨若霁 ;

苏同克 .

中国专利 :CN113589652B ,2021-11-02

[5]

掩模台和包括掩模台的极紫外曝光装置 [P].

李相焕 ;

金度亨 ;

朴珍洪 ;

申河喆 ;

洪成哲 .

韩国专利 :CN118276413A ,2024-07-02

[6]

曝光掩模和使用该曝光掩模的曝光方法 [P].

李树雄 ;

白尚润 .

中国专利 :CN1637594A ,2005-07-13

[7]

掩模传输装置、曝光装置及掩模传输方法 [P].

王长刚 ;

姜杰 .

中国专利 :CN105807574B ,2016-07-27

[8]

一种掩模板曝光装置 [P].

佘晓劲 ;

吴东 .

中国专利 :CN215867499U ,2022-02-18

[9]

掩模曝光用紫外曝光装置 [P].

胡斌 ;

莫大洪 ;

原保平 ;

于天来 ;

王培新 .

中国专利 :CN213750656U ,2021-07-20

[10]

无掩模曝光装置 [P].

押田良忠 ;

小林和夫 .

中国专利 :CN101398631B ,2009-04-01

← 1 2 3 4 5 →