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一种掩模板曝光装置
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202121754919.1
申请日
:
2021-07-30
公开(公告)号
:
CN215867499U
公开(公告)日
:
2022-02-18
发明(设计)人
:
佘晓劲
吴东
申请人
:
申请人地址
:
211500 江苏省南京市矿业机电产业园18号(六合区马鞍街道境内)
IPC主分类号
:
G03F720
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
授权
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:
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法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-02-18
授权
授权
共 50 条
[1]
曝光掩模板装置
[P].
孙明
论文数:
0
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0
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0
孙明
.
中国专利
:CN2836056Y
,2006-11-08
[2]
一种曝光用掩模板
[P].
刘威
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刘威
;
吴德生
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吴德生
.
中国专利
:CN208984948U
,2019-06-14
[3]
一种校正曝光图形的掩模板
[P].
涂亮亮
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涂亮亮
;
刘亚坤
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刘亚坤
;
林建男
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林建男
;
魏明德
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魏明德
.
中国专利
:CN205910491U
,2017-01-25
[4]
掩模板温度控制装置和掩模曝光装置
[P].
张明辉
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张明辉
;
周剑锋
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周剑锋
;
郑锋标
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郑锋标
;
张帅
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张帅
.
中国专利
:CN111948907A
,2020-11-17
[5]
圆筒形掩模板系统、曝光装置和曝光方法
[P].
伍强
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伍强
;
刘畅
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刘畅
;
郝静安
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郝静安
.
中国专利
:CN104035286A
,2014-09-10
[6]
圆筒形掩模板系统、曝光装置和曝光方法
[P].
伍强
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伍强
;
顾一鸣
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顾一鸣
.
中国专利
:CN104035284A
,2014-09-10
[7]
无掩模曝光装置
[P].
千田丽誉
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千田丽誉
.
中国专利
:CN202306138U
,2012-07-04
[8]
掩模板、曝光系统和曝光方法
[P].
陈珍霞
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陈珍霞
;
李凡
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李凡
;
姜妮
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姜妮
.
中国专利
:CN103034046A
,2013-04-10
[9]
一种掩模板和曝光系统
[P].
罗丽平
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罗丽平
;
刘会双
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刘会双
;
胡海琛
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胡海琛
;
孙增标
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孙增标
;
王涛
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王涛
;
金基用
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金基用
.
中国专利
:CN204925610U
,2015-12-30
[10]
一种掩模版以及曝光装置
[P].
陈前杰
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机构:
浙江鑫柔科技有限公司
浙江鑫柔科技有限公司
陈前杰
;
陈新强
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机构:
浙江鑫柔科技有限公司
浙江鑫柔科技有限公司
陈新强
;
江建国
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机构:
浙江鑫柔科技有限公司
浙江鑫柔科技有限公司
江建国
.
中国专利
:CN223229847U
,2025-08-15
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