掩模台、掩模台系统和曝光装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201920323242.2

申请日：

2019-03-14

公开(公告)号：

CN209433186U

公开(公告)日：

2019-09-24

发明(设计)人：

吴韦志

申请人：

申请人地址：

230001 安徽省合肥市蜀山区经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G01H1700

代理机构：

上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294

代理人：

孙佳胤;高德志

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-09-24	授权	授权

共 50 条

[1]

掩模台、掩模台系统和曝光装置 [P].

吴韦志 .

中国专利 :CN111694224A ,2020-09-22

[2]

掩模台和包括掩模台的极紫外曝光装置 [P].

李相焕 ;

金度亨 ;

朴珍洪 ;

申河喆 ;

洪成哲 .

韩国专利 :CN118276413A ,2024-07-02

[3]

一种掩模台、曝光装置和光刻设备 [P].

杨若霁 ;

苏同克 .

中国专利 :CN113589652B ,2021-11-02

[4]

洪京浩 ;

金明圭 ;

朴成晧 ;

朴庄坤 ;

兪硕范 ;

李东载 .

韩国专利 :CN117651464A ,2024-03-05

[5]

一种用于曝光装置的掩模台 [P].

江旭初 .

中国专利 :CN103376667B ,2013-10-30

[6]

曝光掩模和使用该曝光掩模的曝光方法 [P].

李树雄 ;

白尚润 .

中国专利 :CN1637594A ,2005-07-13

[7]

掩模台及包括掩模台的沉积设备 [P].

白大源 ;

金义圭 ;

赵荣善 .

韩国专利 :CN120989556A ,2025-11-21

[8]

掩模板温度控制装置和掩模曝光装置 [P].

张明辉 ;

周剑锋 ;

郑锋标 ;

张帅 .

中国专利 :CN111948907A ,2020-11-17

[9]

曝光装置和光掩模 [P].

畑中诚 .

中国专利 :CN102597880A ,2012-07-18

[10]

一种用于曝光的掩模台 [P].

李高荣 ;

刘洋 .

中国专利 :CN203825364U ,2014-09-10

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