无掩模曝光装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201380014218.6

申请日：

2013-03-29

公开(公告)号：

CN104246615A

公开(公告)日：

2014-12-24

发明(设计)人：

田卷纯一

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G02B2709 H01L21027 H05K300

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司 11127

代理人：

李辉;于靖帅

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-12-24	公开	公开
2015-11-18	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101723585173 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2013800142186 申请公布日:20141224

共 50 条

[1]

无掩模曝光装置 [P].

千田丽誉 .

中国专利 :CN202306138U ,2012-07-04

[2]

无掩模曝光装置 [P].

押田良忠 ;

小林和夫 .

中国专利 :CN101398631B ,2009-04-01

[3]

无掩模曝光装置 [P].

押田良忠 ;

内藤芳达 ;

铃木光弘 .

中国专利 :CN101526743A ,2009-09-09

[4]

曝光装置用曝光头、曝光装置以及曝光方法 [P].

奥山隆志 .

日本专利 :CN118689042A ,2024-09-24

[5]

曝光装置以及曝光方法 [P].

大塚明 .

中国专利 :CN107430353A ,2017-12-01

[6]

无掩模曝光装置和显示装置 [P].

尹相铉 ;

徐甲钟 .

韩国专利 :CN117471861A ,2024-01-30

[7]

曝光光学系统、曝光头以及曝光装置 [P].

小森一树 .

中国专利 :CN105074573A ,2015-11-18

[8]

掩模曝光用紫外曝光装置 [P].

胡斌 ;

莫大洪 ;

原保平 ;

于天来 ;

王培新 .

中国专利 :CN213750656U ,2021-07-20

[9]

光掩模、光掩模组、曝光装置以及曝光方法 [P].

高野祥司 ;

松田文彦 ;

成泽嘉彦 .

中国专利 :CN103676495A ,2014-03-26

[10]

曝光掩模和使用该曝光掩模的曝光方法 [P].

李树雄 ;

白尚润 .

中国专利 :CN1637594A ,2005-07-13

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