半导体制造装置用构件

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201280050729.9
申请日
2012-04-11
公开(公告)号
CN103890224A
公开(公告)日
2014-06-25
发明(设计)人
稻叶光晴 横田博纪 山田圭介
申请人
申请人地址
日本兵库县
IPC主分类号
C23C418
IPC分类号
B23K1500 B23K2634 C23C404 C23C410
代理机构
中原信达知识产权代理有限责任公司 11219
代理人
金龙河;穆德骏
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体制造装置用构件 [P]. 
田村隆二 .
日本专利 :CN114245936B ,2025-02-11
[2]
半导体制造装置用构件 [P]. 
井上靖也 ;
久野达也 .
日本专利 :CN115472483B ,2025-02-14
[3]
半导体制造装置用构件 [P]. 
井上靖也 ;
久野达也 .
中国专利 :CN115472483A ,2022-12-13
[4]
半导体制造装置用构件 [P]. 
田村隆二 .
中国专利 :CN114245936A ,2022-03-25
[5]
半导体制造装置以及半导体制造工艺罐 [P]. 
李昭荣 ;
金贤洙 ;
孙沂周 ;
李根泽 ;
洪琮沅 .
中国专利 :CN107342246A ,2017-11-10
[6]
半导体制造装置用构件及其制造方法 [P]. 
高崎秀明 .
中国专利 :CN109891572A ,2019-06-14
[7]
半导体制造装置构件、半导体制造装置、显示器制造装置 [P]. 
新田安隆 ;
和田琢真 ;
滝沢亮人 .
日本专利 :CN111627790B ,2024-05-03
[8]
半导体制造装置用构件以及塞子 [P]. 
石川征树 ;
青木泰穗 .
中国专利 :CN114864435A ,2022-08-05
[9]
半导体制造装置用构件及其制法 [P]. 
竹林央史 ;
伊藤丈予 .
中国专利 :CN114628308A ,2022-06-14
[10]
半导体制造装置用构件及其制法 [P]. 
竹林央史 ;
伊藤丈予 .
日本专利 :CN115210860B ,2025-07-15