一种支架和原子层沉积镀膜设备

被引：0

申请号：

CN202220244561.6

申请日：

2022-01-27

公开(公告)号：

CN216864319U

公开(公告)日：

2022-07-01

发明(设计)人：

魏晓庆蓝芝江李硕

申请人：

申请人地址：

200131 上海市浦东新区自由贸易试验区富特北路211号302部位368室

IPC主分类号：

C23C16455

IPC分类号：

C23C16458

代理机构：

北京品源专利代理有限公司 11332

代理人：

王士强

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-07-01	授权	授权

共 50 条

[1]

原子层沉积镀膜设备 [P].

陈文翰 ;

李哲峰 .

中国专利 :CN216404533U ,2022-04-29

[2]

原子层沉积镀膜设备 [P].

陈文翰 ;

乌磊 ;

李哲峰 .

中国专利 :CN216404534U ,2022-04-29

[3]

一种原子层沉积镀膜设备 [P].

李宇晗 ;

邵大立 ;

逄效伟 ;

周翔 ;

刘国庆 ;

魏静仪 ;

陈扬 ;

夏智星 ;

齐彪 ;

史皓然 ;

马敬忠 .

中国专利 :CN223061078U ,2025-07-04

[4]

一种原子层沉积镀膜设备的上下片系统 [P].

崔国东 ;

戴秀海 ;

余海春 ;

魏晓庆 ;

董黄华 .

中国专利 :CN212533121U ,2021-02-12

[5]

原子层沉积镀膜设备 [P].

莫姗 ;

秦志勇 ;

杨启忠 .

中国专利 :CN223373223U ,2025-09-23

[6]

一种原子层沉积镀膜设备的化学源导入系统 [P].

崔国东 ;

戴秀海 ;

余海春 ;

董黄华 ;

魏晓庆 .

中国专利 :CN212834019U ,2021-03-30

[7]

一种原子层沉积镀膜设备 [P].

魏晓庆 ;

秦志勇 ;

谢雄星 .

中国专利 :CN118621301A ,2024-09-10

[8]

一种原子层沉积镀膜设备 [P].

魏晓庆 ;

秦志勇 ;

谢雄星 .

中国专利 :CN118621301B ,2024-11-12

[9]

一种尾气过滤装置和原子层沉积镀膜设备 [P].

魏晓庆 ;

秦志勇 .

中国专利 :CN220834660U ,2024-04-26

[10]

一种原子层沉积镀膜设备的上下片系统 [P].

崔国东 ;

戴秀海 ;

余海春 ;

魏晓庆 ;

董黄华 .

中国专利 :CN111850516A ,2020-10-30

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