一种原子层沉积镀膜设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202422343779.9

申请日：

2024-09-25

公开(公告)号：

CN223061078U

公开(公告)日：

2025-07-04

发明(设计)人：

李宇晗邵大立逄效伟周翔刘国庆魏静仪陈扬夏智星齐彪史皓然马敬忠

申请人：

杭州星原驰半导体有限公司

申请人地址：

311222 浙江省杭州市钱塘区河庄街道东围路599号博潮城8号厂房

IPC主分类号：

C23C16/455

IPC分类号：

C23C16/52 H10K71/10

代理机构：

杭州运酬专利代理事务所(特殊普通合伙) 33429

代理人：

王叶娟

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-07-04	授权	授权

共 50 条

[1]

原子层沉积镀膜设备 [P].

陈文翰 ;

李哲峰 .

中国专利 :CN216404533U ,2022-04-29

[2]

原子层沉积镀膜设备 [P].

陈文翰 ;

乌磊 ;

李哲峰 .

中国专利 :CN216404534U ,2022-04-29

[3]

原子层沉积镀膜设备 [P].

莫姗 ;

秦志勇 ;

杨启忠 .

中国专利 :CN223373223U ,2025-09-23

[4]

一种原子层沉积镀膜设备 [P].

魏晓庆 ;

秦志勇 ;

谢雄星 .

中国专利 :CN118621301A ,2024-09-10

[5]

一种原子层沉积镀膜设备 [P].

魏晓庆 ;

秦志勇 ;

谢雄星 .

中国专利 :CN118621301B ,2024-11-12

[6]

一种支架和原子层沉积镀膜设备 [P].

魏晓庆 ;

蓝芝江 ;

李硕 .

中国专利 :CN216864319U ,2022-07-01

[7]

原子层沉积设备 [P].

曹建伟 ;

朱凌锋 ;

陈培杰 ;

胡汉彦 ;

罗丹 ;

张华敏 ;

刘海博 .

中国专利 :CN221480068U ,2024-08-06

[8]

一种原子层沉积镀膜装置 [P].

吴其松 .

中国专利 :CN204849020U ,2015-12-09

[9]

一种原子层沉积镀膜装置 [P].

卢青 ;

周文斌 ;

任国璐 ;

盛嫦娥 ;

曹云岭 ;

沈倩 ;

徐超 ;

孙剑 ;

高裕弟 .

中国专利 :CN216514118U ,2022-05-13

[10]

原子层沉积镀膜设备及其电感耦合线圈 [P].

陈文翰 ;

李哲峰 .

中国专利 :CN216562718U ,2022-05-17

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