一种原子层沉积镀膜装置

被引：0

申请号：

CN202123185106.8

申请日：

2021-12-17

公开(公告)号：

CN216514118U

公开(公告)日：

2022-05-13

发明(设计)人：

卢青周文斌任国璐盛嫦娥曹云岭沈倩徐超孙剑高裕弟

申请人：

申请人地址：

215300 江苏省苏州市昆山市晨丰路188号

IPC主分类号：

C23C16455

IPC分类号：

C23C1640 C23C16458

代理机构：

北京远智汇知识产权代理有限公司 11659

代理人：

林波

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-05-13	授权	授权

共 50 条

[1]

一种原子层沉积镀膜装置 [P].

吴其松 .

中国专利 :CN204849020U ,2015-12-09

[2]

一种原子层沉积自动镀膜装置 [P].

黎微明 ;

杨玉峰 ;

胡彬 ;

李翔 ;

左敏 ;

濮一鹏 .

中国专利 :CN207877856U ,2018-09-18

[3]

原子层沉积镀膜设备 [P].

陈文翰 ;

李哲峰 .

中国专利 :CN216404533U ,2022-04-29

[4]

原子层沉积镀膜设备 [P].

陈文翰 ;

乌磊 ;

李哲峰 .

中国专利 :CN216404534U ,2022-04-29

[5]

一种原子层沉积自动镀膜装置 [P].

黎微明 ;

杨玉峰 ;

胡彬 ;

李翔 ;

左敏 ;

濮一鹏 .

中国专利 :CN107904572A ,2018-04-13

[6]

一种表面原子层沉积镀膜装置 [P].

董红 ;

赵翔 ;

张伯源 .

中国专利 :CN117821943A ,2024-04-05

[7]

一种原子层沉积镀膜设备 [P].

魏晓庆 ;

秦志勇 ;

谢雄星 .

中国专利 :CN118621301A ,2024-09-10

[8]

一种原子层沉积镀膜设备 [P].

李宇晗 ;

邵大立 ;

逄效伟 ;

周翔 ;

刘国庆 ;

魏静仪 ;

陈扬 ;

夏智星 ;

齐彪 ;

史皓然 ;

马敬忠 .

中国专利 :CN223061078U ,2025-07-04

[9]

一种原子层沉积镀膜设备 [P].

魏晓庆 ;

秦志勇 ;

谢雄星 .

中国专利 :CN118621301B ,2024-11-12

[10]

一种原子层沉积装置 [P].

应世强 ;

应佳根 .

中国专利 :CN216274363U ,2022-04-12

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