一种原子层沉积自动镀膜装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201721788583.4

申请日：

2017-12-19

公开(公告)号：

CN207877856U

公开(公告)日：

2018-09-18

发明(设计)人：

黎微明杨玉峰胡彬李翔左敏濮一鹏

申请人：

申请人地址：

214028 江苏省无锡市新区行创四路7号

IPC主分类号：

C23C16455

IPC分类号：

C23C1654

代理机构：

南京知识律师事务所 32207

代理人：

朱少华

法律状态：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-04-24	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C23C 16/455 变更事项:专利权人变更前:江苏微导纳米装备科技有限公司变更后:江苏微导纳米科技股份有限公司变更事项:地址变更前:214028 江苏省无锡市新区行创四路7号变更后:214028 江苏省无锡市新吴区漓江路11号
2018-09-18	授权	授权

共 50 条

[1]

一种原子层沉积自动镀膜装置 [P].

黎微明 ;

杨玉峰 ;

胡彬 ;

李翔 ;

左敏 ;

濮一鹏 .

中国专利 :CN107904572A ,2018-04-13

[2]

一种原子层沉积镀膜装置 [P].

吴其松 .

中国专利 :CN204849020U ,2015-12-09

[3]

一种原子层沉积镀膜装置 [P].

卢青 ;

周文斌 ;

任国璐 ;

盛嫦娥 ;

曹云岭 ;

沈倩 ;

徐超 ;

孙剑 ;

高裕弟 .

中国专利 :CN216514118U ,2022-05-13

[4]

原子层沉积镀膜设备 [P].

陈文翰 ;

李哲峰 .

中国专利 :CN216404533U ,2022-04-29

[5]

原子层沉积镀膜设备 [P].

陈文翰 ;

乌磊 ;

李哲峰 .

中国专利 :CN216404534U ,2022-04-29

[6]

一种表面原子层沉积镀膜装置 [P].

董红 ;

赵翔 ;

张伯源 .

中国专利 :CN117821943A ,2024-04-05

[7]

高效原子沉积层镀膜设备自动上下料系统 [P].

孙青 ;

张景坡 .

中国专利 :CN212335295U ,2021-01-12

[8]

一种原子层沉积镀膜设备 [P].

李宇晗 ;

邵大立 ;

逄效伟 ;

周翔 ;

刘国庆 ;

魏静仪 ;

陈扬 ;

夏智星 ;

齐彪 ;

史皓然 ;

马敬忠 .

中国专利 :CN223061078U ,2025-07-04

[9]

一种原子层沉积镀膜腔室 [P].

闻梦瑶 ;

明帅强 ;

李明 ;

王浙加 ;

李国庆 ;

戴昕童 ;

车睿远 ;

张亦哲 ;

徐硕 .

中国专利 :CN223738129U ,2025-12-30

[10]

原子层沉积镀膜方法 [P].

陈桉苡 ;

刘安徽 ;

黄俊凯 ;

叶昌鑫 ;

郑博鸿 .

中国专利 :CN118685760A ,2024-09-24

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