量测方法和光刻方法、光刻单元和计算机程序

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201780014743.6

申请日：

2017-02-21

公开(公告)号：

CN108700833A

公开(公告)日：

2018-10-23

发明(设计)人：

K·布哈塔查里亚

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

王茂华;吕世磊

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-11-16	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20170221
2018-10-23	公开	公开

共 50 条

[1]

量测方法和光刻方法、光刻单元和计算机程序 [P].

K·布哈塔查里亚 .

:CN117970750A ,2024-05-03

[2]

量测方法和设备、计算机程序和光刻系统 [P].

P·J·特纳 ;

A·蔡亚马斯 .

:CN113614644B ,2024-12-13

[3]

量测方法和设备、计算机程序和光刻系统 [P].

T·希尤维斯 ;

H·A·J·克瑞姆 .

中国专利 :CN109564393B ,2019-04-02

[4]

量测方法和设备、计算机程序及光刻系统 [P].

曾思翰 ;

彭玥霖 ;

方仁宇 ;

A·J·登博夫 ;

A·斯塔杰 ;

洪敬懿 ;

P·沃纳尔 .

中国专利 :CN107771271A ,2018-03-06

[5]

量测方法和设备、计算机程序和光刻系统 [P].

P·J·特纳 ;

A·蔡亚马斯 .

中国专利 :CN113614644A ,2021-11-05

[6]

量测方法和设备、计算机程序及光刻系统 [P].

N·潘迪 ;

周子理 ;

A·E·A·科伦 ;

G·范德祖克 .

中国专利 :CN108139682A ,2018-06-08

[7]

计量方法和设备、计算机程序和光刻系统 [P].

柳星兰 ;

H·J·H·斯米尔德 ;

Y-L·彭 ;

H·E·切克利 ;

J·佩罗 ;

R·J·F·范哈伦 .

中国专利 :CN107430350B ,2017-12-01

[8]

计量方法和设备、计算机程序和光刻系统 [P].

A·奥诺塞 ;

R·德克斯 ;

R·H·E·C·博施 ;

S·S·A·M·雅各布斯 ;

F·J·布杰恩斯特斯 ;

S·T·德兹瓦特 ;

A·帕尔哈·达·希尔瓦·克莱里戈 ;

N·弗赫尔 .

中国专利 :CN113574458A ,2021-10-29

[9]

计量方法和设备、计算机程序和光刻系统 [P].

A·奥诺塞 ;

R·德克斯 ;

R·H·E·C·博施 ;

S·S·A·M·雅各布斯 ;

F·J·布杰恩斯特斯 ;

S·T·德兹瓦特 ;

A·帕尔哈·达·希尔瓦·克莱里戈 ;

N·弗赫尔 .

:CN113574458B ,2024-12-24

[10]

光刻设备、器件制造方法和计算机程序 [P].

P·提奈马恩斯 ;

A·布里克尔 ;

E·鲁普斯特拉 .

中国专利 :CN103946750B ,2014-07-23

← 1 2 3 4 5 →