共 50 条
[1]
[2]
[3]
[4]
[5]
[6]
[7]
[8]
[9]
[10]
一种双室磁控溅射真空镀膜机
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN201921885786.4
申请日：
2019-11-04
公开(公告)号：
CN210886206U
公开(公告)日：
2020-06-30
发明(设计)人：
吴炳照
申请人：
申请人地址：
214000 江苏省无锡市滨湖区胡埭工业园石榴路9号
IPC主分类号：
C23C1435
IPC分类号：
代理机构：
无锡睿升知识产权代理事务所(普通合伙) 32376
代理人：
姬颖敏
法律状态：
授权
国省代码：
引用
下载
收藏
法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-06-30 | 授权 | 授权 |