一种磁控溅射真空镀膜机

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专利类型
发明
申请号
CN202011004498.0
申请日
2020-09-22
公开(公告)号
CN112126904A
公开(公告)日
2020-12-25
发明(设计)人
黎方建
申请人
申请人地址
405400 重庆市开州区巫山乡盘龙村91号
IPC主分类号
C23C1435
IPC分类号
C23C1456
代理机构
代理人
法律状态
发明专利申请公布后的撤回
国省代码
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共 50 条
[1]
真空镀膜机(磁控溅射) [P]. 
李飞 ;
杨占锋 ;
李桂洋 ;
潘士保 ;
张志聪 .
中国专利 :CN307706673S ,2022-12-02
[2]
真空镀膜机磁控溅射靶装置 [P]. 
黄瑞安 .
中国专利 :CN201890921U ,2011-07-06
[3]
磁控溅射真空镀膜机腔体 [P]. 
杜建飞 .
中国专利 :CN309125686S ,2025-02-18
[4]
磁控溅射真空镀膜机组 [P]. 
章新良 ;
彭为报 ;
崔介东 ;
龚瑞 .
中国专利 :CN201801582U ,2011-04-20
[5]
一种磁控溅射真空镀膜机 [P]. 
谢学东 ;
谢辉东 .
中国专利 :CN214327869U ,2021-10-01
[6]
一种磁控溅射真空镀膜机 [P]. 
宋泳东 .
中国专利 :CN210916237U ,2020-07-03
[7]
一种磁控溅射真空镀膜机 [P]. 
张勇军 ;
卢成 ;
王伟 ;
魏佳 ;
刘维龙 .
中国专利 :CN118390017A ,2024-07-26
[8]
一种磁控溅射真空镀膜机 [P]. 
张勇军 ;
卢成 ;
王伟 ;
魏佳 ;
刘维龙 .
中国专利 :CN118390017B ,2024-09-03
[9]
一种磁控溅射真空镀膜机 [P]. 
谢学东 .
中国专利 :CN114635110A ,2022-06-17
[10]
一种磁控溅射真空镀膜机 [P]. 
戴建新 ;
戴科晨 .
中国专利 :CN116288198B ,2025-04-15