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半导体器件及其制作方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201910967497.7
申请日
:
2019-10-12
公开(公告)号
:
CN110690163B
公开(公告)日
:
2020-01-14
发明(设计)人
:
张春艳
孙鹏
李恒甫
包焓
曹立强
申请人
:
申请人地址
:
200120 上海市自由贸易试验区创新西路778号
IPC主分类号
:
H01L21768
IPC分类号
:
H01L21683
代理机构
:
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
:
张静
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-04-19
授权
授权
2020-02-11
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/768 申请日:20191012
2020-01-14
公开
公开
共 50 条
[1]
半导体器件及其制作方法
[P].
张春艳
论文数:
0
引用数:
0
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张春艳
;
孙鹏
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孙鹏
;
李恒甫
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李恒甫
;
包焓
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包焓
;
曹立强
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曹立强
.
中国专利
:CN110690164A
,2020-01-14
[2]
半导体器件及其制作方法
[P].
毛智彪
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毛智彪
;
胡友存
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胡友存
.
中国专利
:CN102969269A
,2013-03-13
[3]
半导体器件及其制作方法
[P].
毛智彪
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毛智彪
;
胡友存
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胡友存
.
中国专利
:CN102969271A
,2013-03-13
[4]
半导体器件及其制作方法
[P].
毛智彪
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毛智彪
;
胡友存
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胡友存
.
中国专利
:CN102969272A
,2013-03-13
[5]
半导体器件及其制作方法
[P].
胡华勇
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胡华勇
;
单朝杰
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单朝杰
.
中国专利
:CN102646573B
,2012-08-22
[6]
半导体器件及其制作方法
[P].
毛智彪
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毛智彪
;
胡友存
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胡友存
.
中国专利
:CN102969270A
,2013-03-13
[7]
半导体器件制作方法
[P].
毛智彪
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毛智彪
;
胡友存
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胡友存
;
戴韫青
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戴韫青
;
王剑
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王剑
.
中国专利
:CN102339790A
,2012-02-01
[8]
半导体器件制作方法
[P].
毛智彪
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毛智彪
;
胡友存
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胡友存
;
戴韫青
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戴韫青
;
王剑
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王剑
.
中国专利
:CN102339792A
,2012-02-01
[9]
半导体器件及其制作方法
[P].
张敬伟
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张敬伟
;
贺锋
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贺锋
;
李天运
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李天运
.
中国专利
:CN114220863A
,2022-03-22
[10]
半导体器件的制作方法
[P].
王新鹏
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0
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0
王新鹏
.
中国专利
:CN103165426B
,2013-06-19
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