半导体器件及其形成方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201510520205.7
申请日
2015-08-21
公开(公告)号
CN106469652B
公开(公告)日
2017-03-01
发明(设计)人
赵杰
申请人
申请人地址
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
H01L21336
IPC分类号
H01L2978 H01L2128 H01L29423
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
高静;吴敏
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体器件的形成方法 [P]. 
张海洋 ;
张城龙 .
中国专利 :CN106158645A ,2016-11-23
[2]
半导体器件及其形成方法 [P]. 
李勇 .
中国专利 :CN107958872B ,2018-04-24
[3]
半导体器件及其形成方法 [P]. 
李勇 .
中国专利 :CN107492523B ,2017-12-19
[4]
半导体器件及其形成方法 [P]. 
周飞 .
中国专利 :CN106409677B ,2017-02-15
[5]
半导体器件及其形成方法 [P]. 
李勇 .
中国专利 :CN107591370B ,2018-01-16
[6]
半导体器件及其形成方法 [P]. 
黄峰 ;
陈林 ;
王睿 .
中国专利 :CN108573871A ,2018-09-25
[7]
半导体器件的形成方法 [P]. 
张海洋 ;
洪中山 .
中国专利 :CN106298894A ,2017-01-04
[8]
半导体器件及其形成方法 [P]. 
周飞 .
中国专利 :CN108206205A ,2018-06-26
[9]
半导体器件及其形成方法 [P]. 
张城龙 ;
何其暘 ;
张海洋 .
中国专利 :CN106558608B ,2017-04-05
[10]
半导体器件及其形成方法 [P]. 
李勇 .
中国专利 :CN107591438A ,2018-01-16