半导体制作方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN99813035.4
申请日
1999-10-27
公开(公告)号
CN1325544A
公开(公告)日
2001-12-05
发明(设计)人
J·C·尼斯特伦 T·约翰松
申请人
申请人地址
瑞典斯德哥尔摩
IPC主分类号
H01L2177
IPC分类号
H01L218222
代理机构
中国专利代理(香港)有限公司
代理人
王勇;梁永
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体制作方法 [P]. 
沈荣亮 ;
颜松 ;
周舟 ;
阚保国 ;
陈伏宏 .
中国专利 :CN119943671A ,2025-05-06
[2]
半导体制作方法 [P]. 
杨军 .
中国专利 :CN112542383B ,2021-03-23
[3]
半导体制作方法 [P]. 
何理 ;
巨晓华 ;
王奇伟 .
中国专利 :CN110854121A ,2020-02-28
[4]
半导体制作方法 [P]. 
李筠 ;
李振铭 ;
柯忠廷 ;
杨复凯 ;
王美匀 .
中国专利 :CN109860050A ,2019-06-07
[5]
固态半导体制作方法 [P]. 
黄世晟 ;
凃博闵 ;
杨顺贵 ;
黄嘉宏 .
中国专利 :CN102456777A ,2012-05-16
[6]
半导体制作方法及其制作装置 [P]. 
大谷久 ;
安达广树 .
中国专利 :CN1111400A ,1995-11-08
[7]
半导体制冷片与半导体制冷片制作方法 [P]. 
王旭飞 ;
陆建辉 .
中国专利 :CN118368963A ,2024-07-19
[8]
半导体器件及其制作方法 [P]. 
薛琬晴 ;
靳耀乐 ;
严翔 ;
闫晓晖 ;
丁丽真 ;
沈文杰 .
中国专利 :CN118571842A ,2024-08-30
[9]
半导体装置及其制作方法 [P]. 
王怡琇 ;
陈彦兆 ;
夏英庭 ;
江照平 ;
郑钧智 .
中国专利 :CN110021529A ,2019-07-16
[10]
半导体器件的制作方法 [P]. 
谢红梅 ;
刘煊杰 .
中国专利 :CN102820385B ,2012-12-12