一种制备氧化硅薄膜的方法

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申请号
CN202011452948.2
申请日
2020-12-11
公开(公告)号
CN114622183A
公开(公告)日
2022-06-14
发明(设计)人
许烁烁 张威 杨彬 唐电 吴易龙 彭宜昌
申请人
申请人地址
410205 湖南省长沙市高新开发区桐梓坡西路586号
IPC主分类号
C23C16455
IPC分类号
C23C1640 C23C1650 C23C1652
代理机构
湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008
代理人
何文红
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
一种热氧化硅薄膜的制备方法 [P]. 
高嘉骏 ;
潘峰 ;
薛成龙 ;
王含冠 ;
柏文文 ;
刘培森 ;
肖博远 ;
周鑫辰 ;
杨朋辉 ;
杨凯 ;
华千慧 ;
国洪辰 ;
崔健 .
中国专利 :CN120174332A ,2025-06-20
[2]
一种氧化硅薄膜的低温制备方法 [P]. 
不公告发明人 .
中国专利 :CN109487233A ,2019-03-19
[3]
氧化硅薄膜的制造方法 [P]. 
林辉巨 .
中国专利 :CN1532897A ,2004-09-29
[4]
氧化硅薄膜的制备方法及半导体结构 [P]. 
余鹏祥 .
中国专利 :CN117524851B ,2024-05-14
[5]
氧化硅薄膜的制备方法及半导体结构 [P]. 
余鹏祥 .
中国专利 :CN117524851A ,2024-02-06
[6]
一种氧化硅薄膜制备方法 [P]. 
王锦标 ;
杜一帅 ;
田圣居 ;
徐照英 ;
张腾飞 ;
苏永要 .
中国专利 :CN116103619B ,2024-09-06
[7]
氧化硅薄膜制备方法 [P]. 
雷通 ;
桑宁波 .
中国专利 :CN103943465B ,2014-07-23
[8]
一种氧化硅膜的制备方法 [P]. 
雷通 .
中国专利 :CN104157567A ,2014-11-19
[9]
一种沉积掺杂氧化硅薄膜的方法及气相沉积设备 [P]. 
曹建伟 ;
朱凌锋 ;
徐思远 ;
吴茂敏 ;
张璇 ;
白孟孟 ;
庞锦涛 .
中国专利 :CN120649000A ,2025-09-16
[10]
一种沉积掺杂氧化硅薄膜的方法及气相沉积设备 [P]. 
曹建伟 ;
朱凌锋 ;
徐思远 ;
吴茂敏 ;
张璇 ;
白孟孟 ;
庞锦涛 .
中国专利 :CN120649000B ,2025-12-16