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氧化硅薄膜制备方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201410192908.7
申请日
:
2014-05-08
公开(公告)号
:
CN103943465B
公开(公告)日
:
2014-07-23
发明(设计)人
:
雷通
桑宁波
申请人
:
申请人地址
:
201203 上海市浦东新区张江开发区高斯路568号
IPC主分类号
:
H01L2102
IPC分类号
:
C23C16455
代理机构
:
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237
代理人
:
王宏婧
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2017-05-24
授权
授权
2014-07-23
公开
公开
2014-08-20
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101584549124 IPC(主分类):H01L 21/02 专利申请号:2014101929087 申请日:20140508
共 50 条
[1]
一种氮化硅薄膜制备方法
[P].
雷通
论文数:
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引用数:
0
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0
雷通
;
桑宁波
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桑宁波
.
中国专利
:CN104152865A
,2014-11-19
[2]
一种氧化硅薄膜制备方法
[P].
论文数:
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机构:
王锦标
;
杜一帅
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机构:
重庆文理学院
重庆文理学院
杜一帅
;
田圣居
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0
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0
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0
机构:
重庆文理学院
重庆文理学院
田圣居
;
论文数:
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机构:
徐照英
;
论文数:
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机构:
张腾飞
;
论文数:
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机构:
苏永要
.
中国专利
:CN116103619B
,2024-09-06
[3]
氮化硅/氧化硅双层增透保护薄膜的制备方法
[P].
冯丽萍
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冯丽萍
;
刘正堂
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刘正堂
.
中国专利
:CN101368263A
,2009-02-18
[4]
一种制备氧化硅薄膜的方法
[P].
许烁烁
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许烁烁
;
张威
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张威
;
杨彬
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杨彬
;
唐电
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唐电
;
吴易龙
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吴易龙
;
彭宜昌
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彭宜昌
.
中国专利
:CN114622183A
,2022-06-14
[5]
氧化硅薄膜形成方法
[P].
赵加恩
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机构:
圆益IPS股份有限公司
圆益IPS股份有限公司
赵加恩
;
朴柱成
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机构:
圆益IPS股份有限公司
圆益IPS股份有限公司
朴柱成
;
郑允镐
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机构:
圆益IPS股份有限公司
圆益IPS股份有限公司
郑允镐
;
韩载然
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机构:
圆益IPS股份有限公司
圆益IPS股份有限公司
韩载然
.
韩国专利
:CN118207516A
,2024-06-18
[6]
氧化硅薄膜的制造方法
[P].
林辉巨
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林辉巨
.
中国专利
:CN1532897A
,2004-09-29
[7]
从有机氨基硅烷前体制备氧化硅薄膜的方法
[P].
H·思里丹达姆
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H·思里丹达姆
;
萧满超
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萧满超
;
雷新建
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雷新建
;
T·R·加夫尼
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0
T·R·加夫尼
.
中国专利
:CN103397306A
,2013-11-20
[8]
从有机氨基硅烷前体制备氧化硅薄膜的方法
[P].
H·思里丹达姆
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H·思里丹达姆
;
萧满超
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萧满超
;
雷新建
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雷新建
;
T·R·加夫尼
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T·R·加夫尼
.
中国专利
:CN101078109A
,2007-11-28
[9]
从有机氨基硅烷前体制备氧化硅薄膜的方法
[P].
H·思里丹达姆
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H·思里丹达姆
;
萧满超
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萧满超
;
雷新建
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雷新建
;
T·R·加夫尼
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T·R·加夫尼
.
中国专利
:CN103225070A
,2013-07-31
[10]
氧化硅薄膜制备方法、氧化膜厚度控制装置及氧化炉
[P].
徐兴国
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徐兴国
;
张凌越
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0
张凌越
.
中国专利
:CN103811335A
,2014-05-21
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