一种提高离子注入GaN基稀磁半导体材料室温铁磁性的热退火方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201811283399.3
申请日
2018-10-31
公开(公告)号
CN109440075B
公开(公告)日
2019-03-08
发明(设计)人
梁李敏 刘彩池 李英
申请人
申请人地址
300130 天津市红桥区丁字沽光荣道8号河北工业大学东院330#
IPC主分类号
C23C1448
IPC分类号
C23C1458 C23C1634 H01F140 H01F4114 H01F4132
代理机构
天津翰林知识产权代理事务所(普通合伙) 12210
代理人
赵凤英
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
采用离子注入制备非极性GaN基稀磁半导体材料的方法 [P]. 
孙莉莉 ;
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[2]
一种调控稀磁半导体材料室温磁性的方法 [P]. 
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[3]
具有室温铁磁性的稀磁半导体材料及其制备方法和用途 [P]. 
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饶毅恒 ;
唐晓莉 ;
钟智勇 ;
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[4]
一种增强ZnO基稀磁半导体薄膜室温铁磁性的方法 [P]. 
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[5]
制备GaN基稀磁半导体材料的方法 [P]. 
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[6]
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[7]
离子注入法制备GaN基稀释磁性半导体材料的方法 [P]. 
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[8]
一种制备具有室温铁磁性氧化锌基稀磁半导体薄膜的方法 [P]. 
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[9]
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[10]
一种具有室温铁磁性的TiO基稀磁半导体薄膜及其制备方法和应用 [P]. 
罗曦 ;
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