半导体装置的制造方法以及半导体装置

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201580020907.7
申请日
2015-02-25
公开(公告)号
CN106233438A
公开(公告)日
2016-12-14
发明(设计)人
大西彻 大木周平 池田知治 R·MD·塔斯比尔
申请人
申请人地址
日本爱知县
IPC主分类号
H01L21336
IPC分类号
H01L21265 H01L2941 H01L29739 H01L2978
代理机构
北京市中咨律师事务所 11247
代理人
万利军;段承恩
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体装置以及半导体装置的制造方法 [P]. 
上村和贵 ;
洼内源宜 .
中国专利 :CN113809147A ,2021-12-17
[2]
半导体装置以及半导体装置的制造方法 [P]. 
西村信也 ;
副岛成雅 ;
山本建策 .
中国专利 :CN105164812B ,2015-12-16
[3]
半导体装置以及半导体装置的制造方法 [P]. 
日野史郎 ;
三浦成久 ;
古川彰彦 ;
中尾之泰 ;
渡边友胜 ;
多留谷政良 ;
海老池勇史 ;
今泉昌之 ;
绫淳 .
中国专利 :CN103548145B ,2014-01-29
[4]
半导体装置以及半导体装置的制造方法 [P]. 
细田直宏 ;
冈田大介 ;
片山弘造 .
中国专利 :CN103035650B ,2013-04-10
[5]
半导体装置以及半导体装置的制造方法 [P]. 
日野史郎 ;
三浦成久 ;
古川彰彦 ;
中尾之泰 ;
渡边友胜 ;
多留谷政良 ;
海老池勇史 ;
今泉昌之 ;
绫淳 .
中国专利 :CN106252416B ,2016-12-21
[6]
半导体装置以及半导体装置的制造方法 [P]. 
木下明将 ;
星保幸 ;
原田祐一 ;
酒井善行 ;
岩谷将伸 ;
吕民雅 .
中国专利 :CN105849877B ,2016-08-10
[7]
半导体装置、半导体模块以及半导体装置的制造方法 [P]. 
洼内源宜 ;
谷口竣太郎 ;
若林孝昌 ;
吉村尚 ;
下泽慎 .
日本专利 :CN121058359A ,2025-12-02
[8]
半导体装置以及半导体装置的制造方法 [P]. 
进藤正典 .
中国专利 :CN113224023A ,2021-08-06
[9]
半导体装置以及半导体装置的制造方法 [P]. 
中川良辅 ;
中尾雄一 .
中国专利 :CN102165576A ,2011-08-24
[10]
半导体装置的制造方法以及半导体装置 [P]. 
小松大辉 .
日本专利 :CN120813029A ,2025-10-17