半导体装置以及半导体装置的制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201210369919.9
申请日
2012-09-28
公开(公告)号
CN103035650B
公开(公告)日
2013-04-10
发明(设计)人
细田直宏 冈田大介 片山弘造
申请人
申请人地址
日本东京
IPC主分类号
H01L2711521
IPC分类号
代理机构
中原信达知识产权代理有限责任公司 11219
代理人
李亚;穆德骏
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体装置以及半导体装置的制造方法 [P]. 
上村和贵 ;
洼内源宜 .
中国专利 :CN113809147A ,2021-12-17
[2]
半导体装置以及半导体装置的制造方法 [P]. 
千叶亮 .
中国专利 :CN109659307A ,2019-04-19
[3]
半导体装置以及半导体装置的制造方法 [P]. 
西村信也 ;
副岛成雅 ;
山本建策 .
中国专利 :CN105164812B ,2015-12-16
[4]
半导体装置以及半导体装置的制造方法 [P]. 
日野史郎 ;
三浦成久 ;
古川彰彦 ;
中尾之泰 ;
渡边友胜 ;
多留谷政良 ;
海老池勇史 ;
今泉昌之 ;
绫淳 .
中国专利 :CN103548145B ,2014-01-29
[5]
半导体装置以及半导体装置的制造方法 [P]. 
日野史郎 ;
三浦成久 ;
古川彰彦 ;
中尾之泰 ;
渡边友胜 ;
多留谷政良 ;
海老池勇史 ;
今泉昌之 ;
绫淳 .
中国专利 :CN106252416B ,2016-12-21
[6]
半导体装置以及半导体装置的制造方法 [P]. 
柴口拓 .
中国专利 :CN111755448A ,2020-10-09
[7]
半导体装置的制造方法以及半导体装置 [P]. 
大西彻 ;
大木周平 ;
池田知治 ;
R·MD·塔斯比尔 .
中国专利 :CN106233438A ,2016-12-14
[8]
半导体装置以及半导体装置的制造方法 [P]. 
木下明将 ;
星保幸 ;
原田祐一 ;
酒井善行 ;
岩谷将伸 ;
吕民雅 .
中国专利 :CN105849877B ,2016-08-10
[9]
半导体装置、半导体模块以及半导体装置的制造方法 [P]. 
洼内源宜 ;
谷口竣太郎 ;
若林孝昌 ;
吉村尚 ;
下泽慎 .
日本专利 :CN121058359A ,2025-12-02
[10]
半导体装置以及半导体装置的制造方法 [P]. 
进藤正典 .
中国专利 :CN113224023A ,2021-08-06