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晶圆的处理方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202010276304.6
申请日
:
2020-04-09
公开(公告)号
:
CN113517176A
公开(公告)日
:
2021-10-19
发明(设计)人
:
张成根
林锺吉
金在植
贺晓彬
丁明正
杨涛
李俊峰
王文武
申请人
:
申请人地址
:
100029 北京市朝阳区北土城西路3号
IPC主分类号
:
H01L21027
IPC分类号
:
G03F700
代理机构
:
北京辰权知识产权代理有限公司 11619
代理人
:
付婧
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-10-19
公开
公开
2021-11-05
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/027 申请日:20200409
共 50 条
[1]
晶圆处理方法和晶圆处理装置
[P].
张胜权
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
张胜权
.
中国专利
:CN119179238A
,2024-12-24
[2]
晶圆的处理方法和晶圆
[P].
程子超
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
昕原半导体(上海)有限公司
昕原半导体(上海)有限公司
程子超
;
陈亮
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
昕原半导体(上海)有限公司
昕原半导体(上海)有限公司
陈亮
;
杨芸
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
昕原半导体(上海)有限公司
昕原半导体(上海)有限公司
杨芸
.
中国专利
:CN120109005A
,2025-06-06
[3]
晶圆处理方法及晶圆处理装置
[P].
姜福来
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
姜福来
.
中国专利
:CN119045284A
,2024-11-29
[4]
晶圆以及晶圆的处理方法
[P].
马姣
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
马姣
.
中国专利
:CN113510609A
,2021-10-19
[5]
晶圆处理结构以及晶圆的处理方法
[P].
徐虹
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
江阴长电先进封装有限公司
江阴长电先进封装有限公司
徐虹
;
徐霞
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
江阴长电先进封装有限公司
江阴长电先进封装有限公司
徐霞
;
龚宏顺
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
江阴长电先进封装有限公司
江阴长电先进封装有限公司
龚宏顺
;
孙超
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
江阴长电先进封装有限公司
江阴长电先进封装有限公司
孙超
;
谢皆雷
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
江阴长电先进封装有限公司
江阴长电先进封装有限公司
谢皆雷
.
中国专利
:CN121123014A
,2025-12-12
[6]
晶圆边缘处理方法
[P].
宋保英
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
宋保英
;
谢岩
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
谢岩
.
中国专利
:CN111564362A
,2020-08-21
[7]
晶圆的研磨方法及晶圆的处理方法
[P].
段亦锋
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
段亦锋
.
中国专利
:CN115083889A
,2022-09-20
[8]
晶圆处理方法及晶圆处理设备
[P].
张武鑫
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
宁波润华全芯微电子设备有限公司
宁波润华全芯微电子设备有限公司
张武鑫
;
叶振鹏
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
宁波润华全芯微电子设备有限公司
宁波润华全芯微电子设备有限公司
叶振鹏
;
李朋
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
宁波润华全芯微电子设备有限公司
宁波润华全芯微电子设备有限公司
李朋
;
周鹏
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
宁波润华全芯微电子设备有限公司
宁波润华全芯微电子设备有限公司
周鹏
;
郝斌荣
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
宁波润华全芯微电子设备有限公司
宁波润华全芯微电子设备有限公司
郝斌荣
.
中国专利
:CN121096937A
,2025-12-09
[9]
晶圆的研磨方法及晶圆的处理方法
[P].
段亦锋
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
段亦锋
.
中国专利
:CN115083889B
,2025-08-05
[10]
晶圆处理方法和晶圆处理装置
[P].
刘洋
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
刘洋
;
张晓燕
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
张晓燕
;
胡海波
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
胡海波
;
刘阳
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
刘阳
;
胡耕
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
胡耕
;
邓雪飞
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
邓雪飞
;
周世豪
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
周世豪
.
中国专利
:CN120453189A
,2025-08-08
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