晶圆处理方法及晶圆处理装置

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202411356363.9
申请日
2024-09-26
公开(公告)号
CN119045284A
公开(公告)日
2024-11-29
发明(设计)人
姜福来
申请人
上海积塔半导体有限公司
申请人地址
201306 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区临港新片区云水路600号
IPC主分类号
G03F7/16
IPC分类号
H01L21/67
代理机构
上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294
代理人
陈丽丽
法律状态
实质审查的生效
国省代码
上海市
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共 50 条
[1]
晶圆处理方法及晶圆处理装置 [P]. 
王剑平 ;
陈建宏 ;
篮国玮 ;
操津津 .
中国专利 :CN113707543A ,2021-11-26
[2]
晶圆处理装置及晶圆处理方法 [P]. 
董佳仁 .
中国专利 :CN112768369A ,2021-05-07
[3]
晶圆处理方法和晶圆处理装置 [P]. 
张胜权 .
中国专利 :CN119179238A ,2024-12-24
[4]
晶圆处理装置及晶圆处理方法 [P]. 
李世鸿 .
中国专利 :CN113448186A ,2021-09-28
[5]
晶圆处理装置及晶圆处理方法 [P]. 
李世鸿 .
中国专利 :CN113448186B ,2024-05-14
[6]
晶圆处理装置及晶圆处理方法 [P]. 
吕相林 .
中国专利 :CN112509969A ,2021-03-16
[7]
晶圆处理装置及晶圆处理方法 [P]. 
左敏 .
中国专利 :CN119208181B ,2025-10-03
[8]
晶圆处理装置及晶圆处理方法 [P]. 
左敏 .
中国专利 :CN119208181A ,2024-12-27
[9]
晶圆处理装置及晶圆处理方法 [P]. 
杨士逸 .
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[10]
晶圆处理装置、晶圆处理方法及晶圆处理系统 [P]. 
李永杰 ;
刘达 .
中国专利 :CN120854249A ,2025-10-28