晶圆的研磨方法及晶圆的处理方法

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申请号
CN202210769328.4
申请日
2022-07-01
公开(公告)号
CN115083889A
公开(公告)日
2022-09-20
发明(设计)人
段亦锋
申请人
申请人地址
200135 上海市浦东新区云水路600号
IPC主分类号
H01L2102
IPC分类号
H01L21683
代理机构
华进联合专利商标代理有限公司 44224
代理人
史治法
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
晶圆的研磨方法及晶圆的处理方法 [P]. 
段亦锋 .
中国专利 :CN115083889B ,2025-08-05
[2]
晶圆以及晶圆的处理方法 [P]. 
马姣 .
中国专利 :CN113510609A ,2021-10-19
[3]
晶圆的处理方法和晶圆 [P]. 
程子超 ;
陈亮 ;
杨芸 .
中国专利 :CN120109005A ,2025-06-06
[4]
SOI晶圆研磨抛光方法及SOI晶圆 [P]. 
汪子文 ;
高巍 ;
魏星 ;
李炜 .
中国专利 :CN119480633A ,2025-02-18
[5]
晶圆的处理方法 [P]. 
张成根 ;
林锺吉 ;
金在植 ;
贺晓彬 ;
丁明正 ;
杨涛 ;
李俊峰 ;
王文武 .
中国专利 :CN113517176A ,2021-10-19
[6]
晶圆清洗及研磨方法 [P]. 
马姣 .
中国专利 :CN115674004A ,2023-02-03
[7]
晶圆处理方法和晶圆处理装置 [P]. 
张胜权 .
中国专利 :CN119179238A ,2024-12-24
[8]
晶圆的研磨抛光加工方法 [P]. 
刘少华 ;
郑向光 ;
汤欢 ;
李青璇 ;
夏江南 ;
刘娇 .
中国专利 :CN119927788B ,2025-08-01
[9]
晶圆的研磨抛光加工方法 [P]. 
刘少华 ;
郑向光 ;
汤欢 ;
李青璇 ;
夏江南 ;
刘娇 .
中国专利 :CN119927788A ,2025-05-06
[10]
晶圆承载装置、晶圆承载方法、晶圆处理设备及上位机 [P]. 
向浪 ;
王兆祥 ;
涂乐义 ;
梁洁 ;
李可 ;
彭国发 ;
王亮 .
中国专利 :CN119601510B ,2025-04-25