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一种多级导流结构的半导体硅晶片清洗工装
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202023101044.3
申请日
:
2020-12-21
公开(公告)号
:
CN214012908U
公开(公告)日
:
2021-08-20
发明(设计)人
:
李东晓
申请人
:
申请人地址
:
214000 江苏省无锡市新吴区长江南路35-322号
IPC主分类号
:
H01L2167
IPC分类号
:
F16M300
F16M700
代理机构
:
无锡华源专利商标事务所(普通合伙) 32228
代理人
:
聂启新
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-08-20
授权
授权
共 50 条
[1]
一种半导体晶片的清洗结构
[P].
孔凡龙
论文数:
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引用数:
0
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0
机构:
江苏仰望石英制品有限公司
江苏仰望石英制品有限公司
孔凡龙
.
中国专利
:CN221515410U
,2024-08-13
[2]
一种用于半导体硅晶片磨砂后的清洗装置
[P].
卢金达
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卢金达
;
赵建
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赵建
;
陈荣杰
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陈荣杰
.
中国专利
:CN215543170U
,2022-01-18
[3]
一种半导体晶片的清洗装置
[P].
李杰
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机构:
梯牧半导体科技(上海)有限公司
梯牧半导体科技(上海)有限公司
李杰
;
殷军伟
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机构:
梯牧半导体科技(上海)有限公司
梯牧半导体科技(上海)有限公司
殷军伟
.
中国专利
:CN220461579U
,2024-02-09
[4]
一种半导体加工硅晶片切割设备
[P].
杨震民
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杨震民
.
中国专利
:CN216229614U
,2022-04-08
[5]
一种半导体加工硅晶片切割设备
[P].
周维宁
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机构:
南京瑞杜新材料科技有限公司
南京瑞杜新材料科技有限公司
周维宁
.
中国专利
:CN223369729U
,2025-09-23
[6]
半导体晶片的清洗工装与清洗方法
[P].
郭春霞
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郭春霞
;
李智
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李智
;
魏金鑫
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魏金鑫
;
兰宇
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兰宇
;
张健
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张健
;
王纪东
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王纪东
;
王颖
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王颖
;
何远
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何远
.
中国专利
:CN114378085A
,2022-04-22
[7]
一种硅晶片的刻蚀方法和半导体结构
[P].
胡文瀚
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机构:
杭州泰新微纳科技有限公司
杭州泰新微纳科技有限公司
胡文瀚
;
崔波
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机构:
杭州泰新微纳科技有限公司
杭州泰新微纳科技有限公司
崔波
;
吴正国
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机构:
杭州泰新微纳科技有限公司
杭州泰新微纳科技有限公司
吴正国
.
中国专利
:CN118083902A
,2024-05-28
[8]
一种半导体晶片的清洗装置
[P].
康凯
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康凯
;
刘景亮
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刘景亮
;
陆前军
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陆前军
;
王子荣
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王子荣
.
中国专利
:CN208298787U
,2018-12-28
[9]
一种半导体晶片清洗花篮
[P].
杜志民
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杜志民
;
王一宇
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王一宇
;
郭立洲
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郭立洲
.
中国专利
:CN205508774U
,2016-08-24
[10]
一种半导体晶片清洗设备
[P].
凡青松
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机构:
苏州恩斯泰金属科技有限公司
苏州恩斯泰金属科技有限公司
凡青松
;
杨文勇
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机构:
苏州恩斯泰金属科技有限公司
苏州恩斯泰金属科技有限公司
杨文勇
.
中国专利
:CN220895464U
,2024-05-03
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