一种多级导流结构的半导体硅晶片清洗工装

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专利类型
实用新型
申请号
CN202023101044.3
申请日
2020-12-21
公开(公告)号
CN214012908U
公开(公告)日
2021-08-20
发明(设计)人
李东晓
申请人
申请人地址
214000 江苏省无锡市新吴区长江南路35-322号
IPC主分类号
H01L2167
IPC分类号
F16M300 F16M700
代理机构
无锡华源专利商标事务所(普通合伙) 32228
代理人
聂启新
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
一种半导体晶片的清洗结构 [P]. 
孔凡龙 .
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[2]
一种用于半导体硅晶片磨砂后的清洗装置 [P]. 
卢金达 ;
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[3]
一种半导体晶片的清洗装置 [P]. 
李杰 ;
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[4]
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[5]
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[6]
半导体晶片的清洗工装与清洗方法 [P]. 
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李智 ;
魏金鑫 ;
兰宇 ;
张健 ;
王纪东 ;
王颖 ;
何远 .
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[7]
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[8]
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[9]
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[10]
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