一种以金刚石为衬底生长的高质量六方氮化硼薄膜及其制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202110273352.4
申请日
2021-03-15
公开(公告)号
CN113053732A
公开(公告)日
2021-06-29
发明(设计)人
陈占国 谭春波 陈曦 刘秀环 赵纪红 侯丽新 高延军
申请人
申请人地址
130012 吉林省长春市长春高新技术产业开发区前进大街2699号
IPC主分类号
H01L2102
IPC分类号
代理机构
长春吉大专利代理有限责任公司 22201
代理人
刘世纯;王恩远
法律状态
发明专利申请公布后的视为撤回
国省代码
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共 50 条
[1]
基于六方氮化硼和氮化铝在金刚石衬底上生长氮化镓的方法 [P]. 
宁静 ;
刘起显 ;
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[2]
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孙晓娟 ;
隋佳恩 ;
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[3]
一种制备六方氮化硼薄膜的方法 [P]. 
卢光远 ;
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[4]
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冯健 ;
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[5]
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[6]
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[7]
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[8]
六方氮化硼薄膜及其制备方法 [P]. 
赵昱 ;
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[9]
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陈占国 ;
范盛达 ;
刘晓航 ;
陈曦 ;
侯丽新 ;
刘秀环 ;
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中国专利 :CN117512559A ,2024-02-06
[10]
一种原位C掺杂的P型六方氮化硼薄膜及其制备方法 [P]. 
陈占国 ;
范盛达 ;
刘晓航 ;
陈曦 ;
侯丽新 ;
刘秀环 ;
赵纪红 ;
高延军 .
中国专利 :CN117512559B ,2025-10-31