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防止光刻胶泄漏的装置和光刻胶输出装置
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN200820123013.8
申请日
:
2008-10-14
公开(公告)号
:
CN201266302Y
公开(公告)日
:
2009-07-01
发明(设计)人
:
任亚然
申请人
:
申请人地址
:
100176北京市经济技术开发区文昌大道18号
IPC主分类号
:
G03F716
IPC分类号
:
代理机构
:
北京德琦知识产权代理有限公司
代理人
:
王 琦;王诚华
法律状态
:
专利权的终止
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2018-11-06
专利权的终止
专利权有效期届满 IPC(主分类):G03F 7/16 申请日:20081014 授权公告日:20090701
2009-07-01
授权
授权
共 50 条
[1]
光刻胶喷涂装置和光刻胶喷涂系统
[P].
陈宁
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0
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陈宁
;
刘兴东
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刘兴东
.
中国专利
:CN203275872U
,2013-11-06
[2]
光刻胶除去装置和光刻胶除去方法
[P].
远藤民夫
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远藤民夫
;
佐藤淳
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佐藤淳
;
天野泰彦
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天野泰彦
;
田村哲司
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田村哲司
.
中国专利
:CN1653596A
,2005-08-10
[3]
光刻胶供应装置和光刻胶供应系统
[P].
徐阳
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徐阳
;
余坚
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余坚
;
纪开勋
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纪开勋
;
杜龙
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杜龙
;
李晨
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李晨
.
中国专利
:CN217767184U
,2022-11-08
[4]
光刻胶去除装置和去除光刻胶的方法
[P].
张凇铭
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张凇铭
;
惠世鹏
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惠世鹏
;
刘效岩
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刘效岩
.
中国专利
:CN111610698A
,2020-09-01
[5]
光刻胶涂布吸头及光刻胶涂布装置
[P].
汪良恩
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汪良恩
;
汪曦凌
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汪曦凌
;
伍银辉
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伍银辉
.
中国专利
:CN204347432U
,2015-05-20
[6]
光刻胶烘干装置
[P].
袁元
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袁元
;
袁文旭
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袁文旭
;
程潇
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程潇
.
中国专利
:CN210573184U
,2020-05-19
[7]
光刻胶涂布装置
[P].
李明欣
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李明欣
;
朱成云
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朱成云
;
古哲安
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古哲安
;
黄志凯
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黄志凯
;
叶日铨
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叶日铨
.
中国专利
:CN208126101U
,2018-11-20
[8]
光刻胶喷吐装置
[P].
王云翔
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机构:
苏州美图半导体技术有限公司
苏州美图半导体技术有限公司
王云翔
;
马冬月
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机构:
苏州美图半导体技术有限公司
苏州美图半导体技术有限公司
马冬月
;
段仲伟
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机构:
苏州美图半导体技术有限公司
苏州美图半导体技术有限公司
段仲伟
;
姚园
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机构:
苏州美图半导体技术有限公司
苏州美图半导体技术有限公司
姚园
.
中国专利
:CN223602764U
,2025-11-28
[9]
光刻胶
[P].
饶夙缔
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饶夙缔
;
陈孝贤
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陈孝贤
.
中国专利
:CN110174819B
,2019-08-27
[10]
光刻胶涂布装置
[P].
张海陆
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张海陆
;
颜廷彪
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颜廷彪
;
叶日铨
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叶日铨
;
黄志凯
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黄志凯
.
中国专利
:CN208432846U
,2019-01-25
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