化学机械抛光液和抛光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201010189611.7

申请日：

2010-06-02

公开(公告)号：

CN101870851A

公开(公告)日：

2010-10-27

发明(设计)人：

许雪峰彭伟姚春燕胡建德

申请人：

申请人地址：

310014 浙江省杭州市潮王路18号

IPC主分类号：

C09G102

IPC分类号：

B24B2900

代理机构：

杭州丰禾专利事务所有限公司 33214

代理人：

王晓峰

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-10-27	公开	公开
2010-12-08	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101021882435 IPC(主分类):C09G 1/02 专利申请号:2010101896117 申请日:20100602
2013-01-30	授权	授权
2021-05-11	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C08J 5/14 申请日:20100602 授权公告日:20130130 终止日期:20200602

共 50 条

[1]

化学机械抛光液及其抛光方法 [P].

周艳 ;

罗海梅 ;

陈高攀 ;

罗桂海 ;

潘立焱 ;

张楚红 .

中国专利 :CN117511412A ,2024-02-06

[2]

化学机械抛光液及其抛光方法 [P].

潘国顺 ;

陈高攀 ;

潘立焱 ;

罗海梅 ;

周艳 ;

罗桂海 ;

张楚红 .

中国专利 :CN115433522A ,2022-12-06

[3]

化学机械抛光液 [P].

赵铁均 ;

张延风 ;

杜新蕊 .

中国专利 :CN118813141A ,2024-10-22

[4]

化学机械抛光液 [P].

赵铁均 ;

张延风 ;

杜新蕊 .

中国专利 :CN118813141B ,2025-04-01

[5]

化学机械抛光液 [P].

王良咏 ;

宋志棠 ;

刘卫丽 ;

刘波 ;

钟旻 ;

何敖东 .

中国专利 :CN102690604A ,2012-09-26

[6]

化学机械抛光液 [P].

杨云忠 .

中国专利 :CN109929457A ,2019-06-25

[7]

化学机械抛光液 [P].

杨春晓 ;

俞昌 ;

肖正龙 ;

荆建芬 .

中国专利 :CN1900146A ,2007-01-24

[8]

一种化学机械抛光液和化学机械抛光方法 [P].

张力飞 ;

王同庆 ;

王淑慧 ;

路新春 .

中国专利 :CN116606595B ,2025-05-16

[9]

一种化学机械抛光液 [P].

李星 ;

王晨 ;

何华锋 ;

李全干 ;

钱尼星 ;

付世龙 .

中国专利 :CN120230479A ,2025-07-01

[10]

化学机械抛光液、系统和方法 [P].

陈科维 ;

魏国修 ;

张世杰 ;

王英郎 .

中国专利 :CN102732157B ,2012-10-17

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