用于铜集成电路内连线的铜电镀液组合物

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专利类型
发明
申请号
CN01141991.1
申请日
2001-09-27
公开(公告)号
CN1410601A
公开(公告)日
2003-04-16
发明(设计)人
吕志昇 罗律铭 谢耀南 何瑞莊
申请人
申请人地址
台湾省台北市
IPC主分类号
C25D338
IPC分类号
C25D712 C25D904
代理机构
隆天国际专利商标代理有限公司
代理人
杨淑媛;郑霞
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
集成电路的内连线结构 [P]. 
黄瑞仁 ;
蔡明兴 ;
眭晓林 ;
苏鸿文 ;
柯亭竹 .
中国专利 :CN1783476A ,2006-06-07
[2]
一种用于电解沉积铜的组合物及酸铜电镀液 [P]. 
周家珠 ;
刘安 ;
张兵 ;
向文胜 ;
赵建龙 ;
朱坤 ;
陆兰 .
中国专利 :CN110938848B ,2020-03-31
[3]
集成电路的内连线结构 [P]. 
余振华 ;
叶名世 .
中国专利 :CN101083248A ,2007-12-05
[4]
用于铜-锡合金电镀的焦磷酸电镀液 [P]. 
浦田和也 ;
橘邦夫 ;
大庭幸 ;
田岛干也 ;
小川幸雄 .
中国专利 :CN100480434C ,2005-09-07
[5]
包含铜-铝电路连线的集成电路结构及其制备方法 [P]. 
苏国辉 ;
陈逸男 ;
刘献文 .
中国专利 :CN102760757A ,2012-10-31
[6]
包含铜-铝电路连线的集成电路结构及其制备方法 [P]. 
苏国辉 ;
陈逸男 ;
刘献文 .
中国专利 :CN102760722A ,2012-10-31
[7]
酸性铜电镀浴组合物 [P]. 
玛丽亚·尼科洛瓦 ;
加里·B·拉尔森 .
中国专利 :CN101715495B ,2010-05-26
[8]
生产集成电路时由高纯铜电镀形成导体结构的方法 [P]. 
H·梅伊尔 ;
A·赛斯 .
中国专利 :CN1337064A ,2002-02-20
[9]
用于集成电路铜布线的无磨料碱性铜精抛液及其制备方法 [P]. 
栾晓东 ;
邵沁霖 ;
樊硕晨 .
中国专利 :CN119776838A ,2025-04-08
[10]
一种适用于微米级铜布线层的铜电镀液 [P]. 
李少平 ;
黄健飞 ;
贺兆波 ;
叶瑞 ;
雷康乐 ;
秦祥 ;
付艳梅 ;
张演哲 .
中国专利 :CN117888153A ,2024-04-16