一种TSV阻挡层抛光液

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110402662.8

申请日：

2011-12-07

公开(公告)号：

CN103146306A

公开(公告)日：

2013-06-12

发明(设计)人：

宋伟红姚颖孙展龙

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼602室

IPC主分类号：

C09G102

IPC分类号：

代理机构：

上海翰鸿律师事务所 31246

代理人：

李佳铭

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-12-10	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101591504699 IPC(主分类):C09G 1/02 专利申请号:2011104026628 申请日:20111207
2013-06-12	公开	公开
2018-01-02	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):C09G 1/02 登记生效日:20171214 变更事项:专利权人变更前权利人:安集微电子（上海）有限公司变更后权利人:安集微电子科技（上海）股份有限公司变更事项:地址变更前权利人:201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼602室变更后权利人:201201 上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区（南区）T6-9幢底层
2016-12-28	授权	授权

共 50 条

[1]

一种阻挡层化学机械抛光液 [P].

荆建芬 ;

宋伟红 .

中国专利 :CN101463225A ,2009-06-24

[2]

一种铜阻挡层化学机械抛光液及其应用 [P].

卞鹏程 ;

卫旻嵩 ;

崔晓坤 ;

王庆伟 ;

李国庆 ;

王瑞芹 ;

徐贺 ;

王永东 .

中国专利 :CN114591686A ,2022-06-07

[3]

阻挡层用抛光液 [P].

上村哲也 ;

竹之内研二 .

中国专利 :CN101012356A ,2007-08-08

[4]

一种用于硅通孔阻挡层平坦化的化学机械抛光液 [P].

宋伟红 ;

姚颖 ;

孙展龙 .

中国专利 :CN103173127B ,2013-06-26

[5]

一种用于TSV钛阻挡层的碱性抛光液及其制备方法 [P].

潘国峰 ;

翟乐 ;

杨学莉 ;

王辰伟 ;

周建伟 ;

曹子宜 .

中国专利 :CN119639353A ,2025-03-18

[6]

一种用于TSV钛阻挡层的碱性抛光液及其制备方法 [P].

潘国峰 ;

翟乐 ;

杨学莉 ;

王辰伟 ;

周建伟 ;

曹子宜 .

中国专利 :CN119639353B ,2025-09-19

[7]

多组分阻挡层抛光液 [P].

卞锦儒 ;

刘振东 .

中国专利 :CN101016440A ,2007-08-15

[8]

一种适用于钴阻挡层的碱性化学机械抛光液 [P].

何彦刚 ;

王辰伟 ;

王如 ;

段波 ;

孙铭斌 ;

檀柏梅 ;

刘玉岭 .

中国专利 :CN104449398A ,2015-03-25

[9]

一种用于阻挡层抛光的酸性抛光液 [P].

李星 ;

王晨 ;

何华锋 .

中国专利 :CN106928863A ,2017-07-07

[10]

一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液 [P].

蔡鑫元 ;

姚颖 ;

荆建芬 ;

潘依君 ;

杜玲曦 ;

宋凯 ;

张建 ;

杨俊雅 ;

王雨春 .

中国专利 :CN108250972B ,2018-07-06

← 1 2 3 4 5 →