一种亚微米级单相氮化硅粉体的合成方法

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专利类型
发明
申请号
CN201210045285.1
申请日
2012-02-27
公开(公告)号
CN102556986A
公开(公告)日
2012-07-11
发明(设计)人
郑治祥 姜坤
申请人
申请人地址
230009 安徽省合肥市屯溪路193号
IPC主分类号
C01B21068
IPC分类号
代理机构
安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101
代理人
何梅生
法律状态
专利权的终止
国省代码
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共 50 条
[1]
一种亚微米级氮化硅粉体的制备方法 [P]. 
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[2]
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[3]
一种新型氮化硅粉体的合成方法 [P]. 
李军 ;
许壮志 ;
薛健 ;
王欣丹 ;
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[4]
一种制备亚微米氮化硅的方法 [P]. 
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[5]
氮化硅粉体的制备方法及氮化硅粉体 [P]. 
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[6]
氮化硅粉体的制备方法及氮化硅粉体 [P]. 
史颖颖 ;
王正 ;
王良 ;
杜盼盼 ;
薛国梁 .
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[7]
一种无添加剂燃烧合成制备亚微米级高α相氮化硅粉体的方法 [P]. 
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葛一瑶 ;
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[8]
氮化硅锰合金的微波合成方法 [P]. 
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柏森 ;
高辉 ;
高海军 ;
朱宏伟 ;
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张喜瑞 ;
刘德明 ;
崔贤 .
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[9]
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张继才 ;
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[10]
一种燃烧合成氮化硅粉体的方法 [P]. 
李江涛 ;
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