硅外延生长的工艺方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201210291209.9
申请日
2012-08-16
公开(公告)号
CN103031598A
公开(公告)日
2013-04-10
发明(设计)人
刘继全 高杏
申请人
申请人地址
201206 上海市浦东新区川桥路1188号
IPC主分类号
C30B2504
IPC分类号
C30B2516 C30B2906
代理机构
上海浦一知识产权代理有限公司 31211
代理人
高月红
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
外延生长工艺方法 [P]. 
李伟峰 .
中国专利 :CN104766789A ,2015-07-08
[2]
基座、外延生长装置、外延硅晶片的制造方法及外延硅晶片 [P]. 
楢原和宏 .
中国专利 :CN111295737A ,2020-06-16
[3]
外延生长用硅晶片及外延晶片及其制造方法 [P]. 
星亮二 ;
园川 .
中国专利 :CN1668786A ,2005-09-14
[4]
硅外延生长室预处理的方法 [P]. 
徐伟中 ;
张洪伟 ;
谢煊 .
中国专利 :CN101399162A ,2009-04-01
[5]
外延生长工艺 [P]. 
李睿 ;
曹志伟 ;
张召 ;
余文达 ;
尹佳玲 ;
刘悦 ;
范永胜 ;
蔡靖凯 ;
吴成志 .
中国专利 :CN121148987A ,2025-12-16
[6]
多晶硅外延生长方法 [P]. 
陈猛 ;
叶斐 ;
张晨膑 ;
姚舒林 .
中国专利 :CN119824534A ,2025-04-15
[7]
外延生长设备的工艺腔室及外延生长设备 [P]. 
夏俊涵 ;
邓晓军 .
中国专利 :CN115404543A ,2022-11-29
[8]
外延生长设备的工艺腔室及外延生长设备 [P]. 
夏俊涵 ;
邓晓军 .
中国专利 :CN115404543B ,2024-03-26
[9]
一种FDSOI硅外延生长工艺优化方法 [P]. 
苏炳熏 ;
叶甜春 ;
朱纪军 ;
李彬鸿 ;
罗军 ;
赵杰 .
中国专利 :CN114121612B ,2022-03-01
[10]
用于硅外延生长的水冷装置 [P]. 
陈特超 ;
胡凡 ;
陈庆广 ;
张彬庭 .
中国专利 :CN205099785U ,2016-03-23