氧化物烧结体及溅射靶

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201880038930.2

申请日：

2018-07-02

公开(公告)号：

CN110741106A

公开(公告)日：

2020-01-31

发明(设计)人：

松元谦士井上雅树中村信一郎矢野智泰

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

C23C1434

IPC分类号：

C04B3501 C23C1408 H01B108 H01B514 H01B1300

代理机构：

永新专利商标代理有限公司 72002

代理人：

周欣

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-02-25	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/34 申请日:20180702
2020-01-31	公开	公开

共 50 条

[1]

氧化物烧结体、溅射靶以及氧化物薄膜 [P].

奈良淳史 ;

关秀人 .

中国专利 :CN105821377A ,2016-08-03

[2]

氧化物烧结体及溅射靶 [P].

后藤裕史 ;

岩崎祐纪 ;

得平雅也 ;

米田阳一郎 .

中国专利 :CN103201232B ,2013-07-10

[3]

氧化物烧结体及溅射靶 [P].

后藤裕史 ;

岩崎祐纪 .

中国专利 :CN103415488A ,2013-11-27

[4]

氧化物烧结体及溅射靶 [P].

西山功兵 ;

田尾幸树 .

中国专利 :CN110636996B ,2019-12-31

[5]

氧化物烧结体及溅射靶 [P].

后藤裕史 ;

岩崎祐纪 .

中国专利 :CN103429554A ,2013-12-04

[6]

氧化物烧结体及溅射靶 [P].

西山功兵 ;

田尾幸树 .

中国专利 :CN110662727A ,2020-01-07

[7]

氧化物烧结体及溅射靶 [P].

田尾幸树 ;

金丸守贺 ;

南部旭 ;

畠英雄 .

中国专利 :CN104619673B ,2015-05-13

[8]

溅射靶及氧化物烧结体的制造方法 [P].

高桥诚一郎 ;

宫下德彦 .

中国专利 :CN101316944A ,2008-12-03

[9]

氧化物烧结体、溅射靶及氧化物薄膜 [P].

寺村享祐 .

中国专利 :CN111448336B ,2020-07-24

[10]

氧化物烧结体及溅射靶材 [P].

宇都野太 ;

井上一吉 ;

川岛浩和 ;

笠见雅司 ;

矢野公规 ;

寺井恒太 .

中国专利 :CN102159517B ,2011-08-17

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