溅射靶及氧化物烧结体的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200780000385.X

申请日：

2007-04-02

公开(公告)号：

CN101316944A

公开(公告)日：

2008-12-03

发明(设计)人：

高桥诚一郎宫下德彦

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C23C1434

IPC分类号：

C04B3500

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

李帆

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-01-28	实质审查的生效	实质审查的生效
2012-10-17	授权	授权
2008-12-03	公开	公开

共 50 条

[1]

氧化物烧结体及溅射靶 [P].

松元谦士 ;

井上雅树 ;

中村信一郎 ;

矢野智泰 .

中国专利 :CN110741106A ,2020-01-31

[2]

氧化物烧结体、溅射靶及溅射靶的制造方法 [P].

海上晓 .

中国专利 :CN113423860A ,2021-09-21

[3]

氧化物烧结体、溅射靶和薄膜以及氧化物烧结体的制造方法 [P].

奈良淳史 .

中国专利 :CN105986230A ,2016-10-05

[4]

氧化物烧结体及溅射靶 [P].

后藤裕史 ;

岩崎祐纪 ;

得平雅也 ;

米田阳一郎 .

中国专利 :CN103201232B ,2013-07-10

[5]

氧化物烧结体及溅射靶 [P].

田尾幸树 ;

金丸守贺 ;

南部旭 ;

畠英雄 .

中国专利 :CN104619673B ,2015-05-13

[6]

氧化物烧结体溅射靶及其制造方法 [P].

高桥一寿 ;

日高浩二 ;

川越裕 ;

武末健太郎 ;

和田优 ;

上野充 ;

清田淳也 ;

小林大士 ;

武井应树 .

中国专利 :CN108350564A ,2018-07-31

[7]

氧化物烧结体、溅射靶以及溅射靶的制造方法 [P].

海上晓 .

中国专利 :CN113677821A ,2021-11-19

[8]

氧化物烧结体、溅射靶以及氧化物薄膜 [P].

奈良淳史 ;

关秀人 .

中国专利 :CN105821377A ,2016-08-03

[9]

氧化物烧结体及溅射靶、以及其制造方法 [P].

田尾幸树 ;

畠英雄 ;

南部旭 ;

金丸守贺 .

中国专利 :CN104619674A ,2015-05-13

[10]

氧化物烧结体及溅射靶材 [P].

宇都野太 ;

井上一吉 ;

川岛浩和 ;

笠见雅司 ;

矢野公规 ;

寺井恒太 .

中国专利 :CN102159517B ,2011-08-17

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