一种绝缘体上应变硅制备方法

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专利类型
发明
申请号
CN201010223281.9
申请日
2010-07-09
公开(公告)号
CN101916741B
公开(公告)日
2010-12-15
发明(设计)人
张苗 张波 王曦 薛忠营 魏星 武爱民
申请人
申请人地址
200050 上海市长宁区长宁路865号
IPC主分类号
H01L21762
IPC分类号
代理机构
上海智信专利代理有限公司 31002
代理人
潘振甦
法律状态
授权
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共 50 条
[1]
一种绝缘体上锗硅和应变硅材料的制备方法 [P]. 
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[2]
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王曦 ;
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武爱民 .
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[3]
绝缘体上应变硅结构的制造方法 [P]. 
A·M·琼斯 ;
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[4]
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[5]
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陈丹婷 ;
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[6]
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[7]
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[8]
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[9]
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请求不公布姓名 ;
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[10]
应变绝缘体上硅的形成方法 [P]. 
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