一种二氧化硅抛光液及其制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202111331749.0

申请日：

2021-11-11

公开(公告)号：

CN114015359A

公开(公告)日：

2022-02-08

发明(设计)人：

常磊付素荣王志伟王国维王森汪静

申请人：

申请人地址：

450016 河南省郑州市郑州经济技术开发区第十七大街与烘云路交叉口东80米路北

IPC主分类号：

C09G102

IPC分类号：

代理机构：

郑州优盾知识产权代理有限公司 41125

代理人：

孙诗雨

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-02-25	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C09G 1/02 申请日:20211111
2022-02-08	公开	公开

共 50 条

[1]

二氧化硅抛光液及其制备方法 [P].

苏宏久 ;

王卓杰 ;

李德翔 ;

雒睿雯 ;

宋平 .

中国专利 :CN119899592A ,2025-04-29

[2]

一种用于二氧化硅介质的抛光液及其制备方法 [P].

仲跻和 ;

李家荣 ;

周云昌 ;

高如山 .

中国专利 :CN101096573A ,2008-01-02

[3]

一种二氧化硅基CMP抛光液及其制备方法 [P].

高桂花 ;

张兰田 .

中国专利 :CN102796460A ,2012-11-28

[4]

一种高抛光效率的二氧化硅抛光液及其制备方法 [P].

李春生 ;

李明月 ;

高礼明 .

中国专利 :CN118222190A ,2024-06-21

[5]

一种纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法 [P].

仲跻和 .

中国专利 :CN101307211A ,2008-11-19

[6]

一种二氧化硅抛光液的检测装置 [P].

张利 ;

李金海 ;

陈作瑞 .

中国专利 :CN216144752U ,2022-03-29

[7]

非球形的二氧化硅颗粒及其制备方法和抛光液 [P].

杨勍 ;

王树东 ;

苏宏久 ;

邹海良 ;

任高远 ;

周慧慧 .

中国专利 :CN114539813A ,2022-05-27

[8]

一种去除二氧化硅颗粒的抛光液 [P].

杨三贵 ;

刘治州 ;

康徐芳 .

中国专利 :CN108102554A ,2018-06-01

[9]

非球形的二氧化硅颗粒及其制备方法和抛光液 [P].

杨勍 ;

王树东 ;

苏宏久 ;

邹海良 ;

任高远 ;

周慧慧 .

中国专利 :CN114539813B ,2024-09-24

[10]

一种含多孔二氧化硅磨料的抛光液及其制备方法 [P].

刘卫丽 ;

雷博 ;

宋志棠 .

中国专利 :CN104559927A ,2015-04-29

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