基于纳米岛衬底制备大高宽比X射线衍射光学元件的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110061442.3

申请日：

2011-03-15

公开(公告)号：

CN102683167A

公开(公告)日：

2012-09-19

发明(设计)人：

李海亮谢常青朱效立史丽娜刘明

申请人：

申请人地址：

100029 北京市朝阳区北土城西路3号

IPC主分类号：

H01L2102

IPC分类号：

G03F700 G21K106

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

周国城

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-03-11	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101712026786 IPC(主分类):H01L 21/02 专利申请号:2011100614423 申请公布日:20120919
2012-11-14	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101346521169 IPC(主分类):H01L 21/02 专利申请号:2011100614423 申请日:20110315
2012-09-19	公开	公开

共 50 条

[1]

制备大高宽比衍射光学元件的方法 [P].

谢常青 ;

李海亮 ;

朱效立 ;

史丽娜 .

中国专利 :CN102608863A ,2012-07-25

[2]

制备X射线衍射光学元件的方法 [P].

谢常青 ;

方磊 ;

朱效立 ;

李冬梅 ;

刘明 .

中国专利 :CN102508411A ,2012-06-20

[3]

制备X射线衍射光学元件的方法 [P].

谢常青 ;

方磊 ;

朱效立 ;

李冬梅 ;

刘明 .

中国专利 :CN102402118A ,2012-04-04

[4]

一种大高宽比衍射光学元件的制作方法 [P].

谢常青 ;

李海亮 ;

史丽娜 ;

朱效立 ;

刘明 .

中国专利 :CN102466967B ,2012-05-23

[5]

XUV和X射线衍射光学元件的制造方法 [P].

乌穆特·腾卡·桑利 ;

哈坎·塞兰 ;

梅廷·斯蒂 ;

吉泽拉·许茨 ;

卡拉曼·凯斯金博拉 .

中国专利 :CN111819492A ,2020-10-23

[6]

一种制作大高宽比X射线衍射光栅的方法 [P].

谢常青 ;

方磊 ;

朱效立 ;

李冬梅 ;

刘明 .

中国专利 :CN102590915A ,2012-07-18

[7]

大高宽比同步辐射X射线衍射型微纳光学器件及其制备方法 [P].

陈秋成 ;

陈宜方 .

中国专利 :CN120727332A ,2025-09-30

[8]

衍射光学元件的制备方法及衍射光学元件 [P].

蔡佳雨 ;

赵辉 .

中国专利 :CN112873922A ,2021-06-01

[9]

衍射光学元件及衍射光学元件的制造方法 [P].

冈田夕佳 ;

末永辰敏 ;

村田晶子 .

中国专利 :CN103097926A ,2013-05-08

[10]

基于常规光学元件设计衍射光学元件的方法 [P].

杨国桢 ;

黄庆礼 ;

叶佳声 ;

王进泽 ;

孟庆波 ;

全保刚 ;

张岩 .

中国专利 :CN102981195A ,2013-03-20

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