一种制作大高宽比X射线衍射光栅的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201210030607.5

申请日：

2012-02-10

公开(公告)号：

CN102590915A

公开(公告)日：

2012-07-18

发明(设计)人：

谢常青方磊朱效立李冬梅刘明

申请人：

申请人地址：

100029 北京市朝阳区北土城西路3号

IPC主分类号：

G02B518

IPC分类号：

G03F720 G03F700

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

周国城

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-07-18	公开	公开
2014-05-14	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101700862687 IPC(主分类):G02B 5/18 专利申请号:2012100306075 申请公布日:20120718
2012-09-19	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101327319341 IPC(主分类):G02B 5/18 专利申请号:2012100306075 申请日:20120210

共 50 条

[1]

一种制作大高宽比X射线衍射光栅的方法 [P].

谢常青 ;

方磊 ;

朱效立 ;

李冬梅 ;

刘明 .

中国专利 :CN102289015A ,2011-12-21

[2]

一种大高宽比衍射光学元件的制作方法 [P].

谢常青 ;

李海亮 ;

史丽娜 ;

朱效立 ;

刘明 .

中国专利 :CN102466967B ,2012-05-23

[3]

基于纳米岛衬底制备大高宽比X射线衍射光学元件的方法 [P].

李海亮 ;

谢常青 ;

朱效立 ;

史丽娜 ;

刘明 .

中国专利 :CN102683167A ,2012-09-19

[4]

一种制作纳米尺度大高宽比器件的方法 [P].

谢常青 ;

方磊 ;

朱效立 ;

李冬梅 ;

刘明 .

中国专利 :CN102608864A ,2012-07-25

[5]

制备大高宽比衍射光学元件的方法 [P].

谢常青 ;

李海亮 ;

朱效立 ;

史丽娜 .

中国专利 :CN102608863A ,2012-07-25

[6]

X射线衍射装置和X射线衍射测定方法 [P].

小林信太郎 ;

光永徹 ;

梶芳功系兆 ;

新井和良 .

中国专利 :CN105593670A ,2016-05-18

[7]

X射线光栅的制作工艺 [P].

郭金川 ;

刘荣耀 ;

杨君 ;

宋韩冬 ;

文明 ;

周彬 .

中国专利 :CN108714625B ,2018-10-30

[8]

一种高高宽比X射线透镜的制备的方法 [P].

陈宜方 ;

刘建朋 ;

邵金海 ;

陆冰睿 .

中国专利 :CN104464870A ,2015-03-25

[9]

用于X射线散射的X射线衍射装置 [P].

V·科根 .

中国专利 :CN101256160A ,2008-09-03

[10]

X射线衍射装置和方法 [P].

E·迈克尔·布劳斯 .

中国专利 :CN104048978B ,2014-09-17

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