一种水平立式磁控溅射镀膜设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201922337848.4

申请日：

2019-12-23

公开(公告)号：

CN211170865U

公开(公告)日：

2020-08-04

发明(设计)人：

高瑞三林志荣高大钧詹奇峯

申请人：

申请人地址：

518104 广东省深圳市宝安区沙井镇壆岗大壆工业区环镇南路A5-11

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

C23C1456

代理机构：

广州市红荔专利代理有限公司 44214

代理人：

李彦孚

法律状态：

授权

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-08-04	授权	授权

共 50 条

[1]

一种水平立式磁控溅射镀膜设备 [P].

高瑞三 ;

林志荣 ;

高大钧 ;

詹奇峯 .

中国专利 :CN110878408A ,2020-03-13

[2]

一种磁控溅射镀膜设备 [P].

张冲 .

中国专利 :CN210856323U ,2020-06-26

[3]

磁控溅射镀膜设备 [P].

刘玉华 ;

方凤军 .

中国专利 :CN204455279U ,2015-07-08

[4]

磁控溅射镀膜设备 [P].

蒋文彬 ;

李宁 ;

孙忠 ;

黄智 ;

林锦华 ;

梁师国 ;

英文 ;

李保良 .

中国专利 :CN204474751U ,2015-07-15

[5]

磁控溅射镀膜设备 [P].

张心凤 ;

郑杰 ;

尹辉 .

中国专利 :CN204752843U ,2015-11-11

[6]

磁控溅射镀膜设备 [P].

臧世伟 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN222455186U ,2025-02-11

[7]

磁控溅射镀膜设备 [P].

王健文 ;

李学欧 ;

蔡东锋 ;

梁凯基 ;

李劲川 .

中国专利 :CN201437550U ,2010-04-14

[8]

磁控溅射镀膜设备 [P].

张心凤 ;

郑杰 ;

尹辉 .

中国专利 :CN204727943U ,2015-10-28

[9]

磁控溅射镀膜设备 [P].

刘玉华 ;

方凤军 .

中国专利 :CN204455280U ,2015-07-08

[10]

磁控溅射镀膜设备 [P].

徐锐 .

中国专利 :CN118957520A ,2024-11-15

← 1 2 3 4 5 →