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防暗流CIS浅沟槽隔离结构及其制作方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202011295974.9
申请日：
2020-11-18
公开(公告)号：
CN112349741A
公开(公告)日：
2021-02-09
发明(设计)人：
邱元元
黄鹏
郭振强
申请人：
申请人地址：
214028 江苏省无锡市新吴区新洲路30号
IPC主分类号：
H01L27146
IPC分类号：
H01L21762
代理机构：
上海浦一知识产权代理有限公司 31211
代理人：
戴广志
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-02-09 | 公开 | 公开 |
| 2021-03-02 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 27/146 申请日:20201118 |