三元半导体PbSnS3纳米晶及其制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201710244854.8
申请日
2017-04-14
公开(公告)号
CN107119321A
公开(公告)日
2017-09-01
发明(设计)人
谭国龙 方娟
申请人
申请人地址
430070 湖北省武汉市洪山区珞狮路122号
IPC主分类号
C30B2946
IPC分类号
C30B2802 B82Y3000 B82Y4000
代理机构
湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102
代理人
崔友明
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
纳米Cu3SbS4三元半导体材料的制备方法 [P]. 
谭国龙 ;
盛号号 ;
徐期树 .
中国专利 :CN105923653A ,2016-09-07
[2]
一种Ⅰ-Ⅲ-Ⅵ族三元半导体纳米晶发光薄膜制备方法 [P]. 
李振荣 ;
陈兆平 ;
路亚群 ;
张忠利 ;
高宝禄 ;
邓胜龙 .
中国专利 :CN103980890B ,2014-08-13
[3]
半导体纳米晶群及其制备方法 [P]. 
彭笑刚 ;
曹煦 ;
李炯昭 .
中国专利 :CN119980474A ,2025-05-13
[4]
双金属硫族三元半导体纳米颗粒及其制备方法 [P]. 
李桢 ;
姜欣欣 .
中国专利 :CN106276818A ,2017-01-04
[5]
固溶体碲化锡铅半导体纳米晶及其制备方法 [P]. 
谭国龙 ;
宋小阳 .
中国专利 :CN108439352A ,2018-08-24
[6]
固溶体钨酸锌镉半导体纳米晶及其制备方法 [P]. 
谭国龙 ;
李可 .
中国专利 :CN107043130A ,2017-08-15
[7]
一种掺杂半导体纳米晶及其制备方法 [P]. 
李林松 ;
申怀彬 .
中国专利 :CN101275077A ,2008-10-01
[8]
半导体纳米晶图案层的制备方法及其应用 [P]. 
肖鹏伟 ;
高远 ;
赵婧馨 .
中国专利 :CN120358913A ,2025-07-22
[9]
一种三元半导体复合薄膜及其制备方法及其应用 [P]. 
郭惠霞 ;
刘籽烨 ;
李亮亮 ;
苏策 ;
于冬梅 ;
张玉蓉 .
中国专利 :CN110592596A ,2019-12-20
[10]
AlxGa1‑xN三元合金锥状纳米晶及其制备方法 [P]. 
沈龙海 ;
齐东丽 ;
吕伟 .
中国专利 :CN107758727A ,2018-03-06