CMP抛光垫调节器

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专利类型
发明
申请号
CN201880087576.2
申请日
2018-12-27
公开(公告)号
CN111655428B
公开(公告)日
2020-09-11
发明(设计)人
R·K·辛格 D·辛格
申请人
申请人地址
美国马萨诸塞州
IPC主分类号
B24B53017
IPC分类号
B24B5312
代理机构
北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287
代理人
李婷
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
双重CMP垫调节器 [P]. 
A·H·刘 ;
L·瓦因斯 .
中国专利 :CN1362907A ,2002-08-07
[2]
垫调节器及化学机械抛光方法 [P]. 
申宪桦 ;
匡训冲 .
中国专利 :CN112743449A ,2021-05-04
[3]
双层CMP抛光子垫 [P]. 
侯冠华 ;
A·旺克 ;
王德纯 ;
N·A·瓦斯克斯 ;
J·R·麦考密克 .
美国专利 :CN118123703A ,2024-06-04
[4]
一种改进型抛光垫调节器工艺 [P]. 
王莉 ;
赵铁军 .
中国专利 :CN101279435B ,2008-10-08
[5]
一种抛光垫调节器 [P]. 
文卡塔·R·巴拉伽纳 ;
乔治·拉泽若 ;
肯尼·金泰·尼格 .
中国专利 :CN201214208Y ,2009-04-01
[6]
一种抛光垫调节器及具有抛光垫调节器的化学机械装置 [P]. 
文卡塔·R·巴拉伽纳 ;
乔治·拉泽若 ;
肯尼·金泰·尼格 .
中国专利 :CN201049437Y ,2008-04-23
[7]
一种抛光垫调节器及具有抛光垫调节器的化学机械装置 [P]. 
文卡塔·R·巴拉伽纳 ;
乔治·拉泽若 ;
肯尼·金泰·尼格 .
中国专利 :CN201239910Y ,2009-05-20
[8]
一种抛光垫调节器及具有抛光垫调节器的化学机械装置 [P]. 
文卡塔·R·巴拉伽纳 ;
乔治·拉泽若 ;
肯尼·金泰·尼格 .
中国专利 :CN201244770Y ,2009-05-27
[9]
CMP抛光垫 [P]. 
钱百年 ;
D·M·奥尔登 ;
M·西莫奇 ;
邱南荣 ;
曾圣桓 .
中国专利 :CN115555987A ,2023-01-03
[10]
CMP调节器 [P]. 
饭吉宽 ;
木村高志 ;
小山继久 ;
饭塚弘明 .
中国专利 :CN1938128A ,2007-03-28