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CMP抛光垫调节器
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201880087576.2
申请日
:
2018-12-27
公开(公告)号
:
CN111655428B
公开(公告)日
:
2020-09-11
发明(设计)人
:
R·K·辛格
D·辛格
申请人
:
申请人地址
:
美国马萨诸塞州
IPC主分类号
:
B24B53017
IPC分类号
:
B24B5312
代理机构
:
北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287
代理人
:
李婷
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-10-13
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 53/017 申请日:20181227
2022-12-16
授权
授权
2020-09-11
公开
公开
共 50 条
[1]
双重CMP垫调节器
[P].
A·H·刘
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A·H·刘
;
L·瓦因斯
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L·瓦因斯
.
中国专利
:CN1362907A
,2002-08-07
[2]
垫调节器及化学机械抛光方法
[P].
申宪桦
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申宪桦
;
匡训冲
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匡训冲
.
中国专利
:CN112743449A
,2021-05-04
[3]
双层CMP抛光子垫
[P].
侯冠华
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机构:
罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
侯冠华
;
A·旺克
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机构:
罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
A·旺克
;
王德纯
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机构:
罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
王德纯
;
N·A·瓦斯克斯
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机构:
罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
N·A·瓦斯克斯
;
J·R·麦考密克
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机构:
罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
J·R·麦考密克
.
美国专利
:CN118123703A
,2024-06-04
[4]
一种改进型抛光垫调节器工艺
[P].
王莉
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王莉
;
赵铁军
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赵铁军
.
中国专利
:CN101279435B
,2008-10-08
[5]
一种抛光垫调节器
[P].
文卡塔·R·巴拉伽纳
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文卡塔·R·巴拉伽纳
;
乔治·拉泽若
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乔治·拉泽若
;
肯尼·金泰·尼格
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肯尼·金泰·尼格
.
中国专利
:CN201214208Y
,2009-04-01
[6]
一种抛光垫调节器及具有抛光垫调节器的化学机械装置
[P].
文卡塔·R·巴拉伽纳
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文卡塔·R·巴拉伽纳
;
乔治·拉泽若
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乔治·拉泽若
;
肯尼·金泰·尼格
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肯尼·金泰·尼格
.
中国专利
:CN201049437Y
,2008-04-23
[7]
一种抛光垫调节器及具有抛光垫调节器的化学机械装置
[P].
文卡塔·R·巴拉伽纳
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文卡塔·R·巴拉伽纳
;
乔治·拉泽若
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乔治·拉泽若
;
肯尼·金泰·尼格
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肯尼·金泰·尼格
.
中国专利
:CN201239910Y
,2009-05-20
[8]
一种抛光垫调节器及具有抛光垫调节器的化学机械装置
[P].
文卡塔·R·巴拉伽纳
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文卡塔·R·巴拉伽纳
;
乔治·拉泽若
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乔治·拉泽若
;
肯尼·金泰·尼格
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肯尼·金泰·尼格
.
中国专利
:CN201244770Y
,2009-05-27
[9]
CMP抛光垫
[P].
钱百年
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钱百年
;
D·M·奥尔登
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D·M·奥尔登
;
M·西莫奇
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M·西莫奇
;
邱南荣
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邱南荣
;
曾圣桓
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曾圣桓
.
中国专利
:CN115555987A
,2023-01-03
[10]
CMP调节器
[P].
饭吉宽
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饭吉宽
;
木村高志
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木村高志
;
小山继久
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小山继久
;
饭塚弘明
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0
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饭塚弘明
.
中国专利
:CN1938128A
,2007-03-28
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