一种抛光垫调节器

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN200720181549.0

申请日：

2005-10-10

公开(公告)号：

CN201214208Y

公开(公告)日：

2009-04-01

发明(设计)人：

文卡塔·R·巴拉伽纳乔治·拉泽若肯尼·金泰·尼格

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

B24B2900

IPC分类号：

代理机构：

北京东方亿思知识产权代理有限责任公司

代理人：

赵飞

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-12-05	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101362539660 IPC(主分类):B24B 29/00 专利号:ZL2007201815490 申请日:20051010 授权公告日:20090401 终止日期:20111010
2009-04-01	授权	授权

共 50 条

[1]

一种抛光垫调节器及具有抛光垫调节器的化学机械装置 [P].

文卡塔·R·巴拉伽纳 ;

乔治·拉泽若 ;

肯尼·金泰·尼格 .

中国专利 :CN201049437Y ,2008-04-23

[2]

一种抛光垫调节器及具有抛光垫调节器的化学机械装置 [P].

文卡塔·R·巴拉伽纳 ;

乔治·拉泽若 ;

肯尼·金泰·尼格 .

中国专利 :CN201239910Y ,2009-05-20

[3]

一种抛光垫调节器及具有抛光垫调节器的化学机械装置 [P].

文卡塔·R·巴拉伽纳 ;

乔治·拉泽若 ;

肯尼·金泰·尼格 .

中国专利 :CN201244770Y ,2009-05-27

[4]

CMP抛光垫调节器 [P].

R·K·辛格 ;

D·辛格 .

中国专利 :CN111655428B ,2020-09-11

[5]

一种改进型抛光垫调节器工艺 [P].

王莉 ;

赵铁军 .

中国专利 :CN101279435B ,2008-10-08

[6]

一种研磨垫调节器 [P].

詹明松 ;

黄涛 .

中国专利 :CN203918744U ,2014-11-05

[7]

研磨垫调节器 [P].

黄煌南 ;

李政芳 .

中国专利 :CN202053154U ,2011-11-30

[8]

垫调节器及化学机械抛光方法 [P].

申宪桦 ;

匡训冲 .

中国专利 :CN112743449A ,2021-05-04

[9]

一种可调节抛光垫面型的抛光垫修整器 [P].

王永成 .

中国专利 :CN209364389U ,2019-09-10

[10]

双重CMP垫调节器 [P].

A·H·刘 ;

L·瓦因斯 .

中国专利 :CN1362907A ,2002-08-07

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