用于光刻设备的光学元件支座

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200980127911.8

申请日：

2009-07-16

公开(公告)号：

CN102099745B

公开(公告)日：

2011-06-15

发明(设计)人：

H·G·泰根波什克 A·M·斯卓克肯 J·克莱恩 R·A·C·M·比伦斯 I·范德瓦哈伦

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

王波波

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-09-14	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101104922753 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2009801279118 申请日:20090716
2011-06-15	公开	公开
2014-08-20	授权	授权

共 50 条

[1]

用于光刻设备的光学元件、包括这种光学元件的光刻设备以及制造该光学元件的方法 [P].

L·斯基马恩奥克 ;

V·班尼恩 ;

R·莫尔斯 ;

D·克鲁什考沃 ;

A·M·雅库尼恩 .

中国专利 :CN102089713B ,2011-06-08

[2]

用于光刻设备的光学元件和表膜隔膜 [P].

Z·S·豪厄林 ;

V·D·希尔德布兰德 ;

A·L·克莱因 ;

保罗·亚历山大·维梅伦 .

中国专利 :CN115698851A ,2023-02-03

[3]

生产光刻设备的光学元件的方法 [P].

C·沃尔克 ;

V·托纳格尔 ;

S·克林哈默 ;

K·希尔德 ;

N·伦特 .

德国专利 :CN117428576A ,2024-01-23

[4]

具有抛光层的光学元件、包括该光学元件的光刻设备以及用于制造该光学元件的方法 [P].

E·艾娃 .

德国专利 :CN120584308A ,2025-09-02

[5]

光刻设备中的光学元件的位置测量 [P].

E.洛普斯特拉 ;

E.A.F.范德帕施 ;

S.布雷迪斯特尔 ;

S.科西恩 .

中国专利 :CN109154783A ,2019-01-04

[6]

光刻设备中的光学元件的位置测量 [P].

E.洛普斯特拉 ;

E.A.F.范德帕施 ;

S.布雷迪斯特尔 ;

S.科西恩 .

中国专利 :CN114236970A ,2022-03-25

[7]

光学元件、包括这种光学元件的光刻设备及器件制造方法 [P].

L·P·巴克 .

中国专利 :CN100498531C ,2005-05-11

[8]

包括清洁装置的光刻设备及用于清洁光学元件的方法 [P].

马登·马力内斯·约翰内斯·威廉姆斯·范荷彭 ;

德克·简·威尔弗雷德·克拉恩德尔 .

中国专利 :CN101356476A ,2009-01-28

[9]

带有支座的光学元件 [P].

菊地公博 .

中国专利 :CN1527082A ,2004-09-08

[10]

光学元件、包括该光学元件的光刻设备、器件制造方法以及所制造的器件 [P].

W·A·索尔 ;

V·Y·班尼恩 ;

J·H·J·莫尔斯 ;

M·M·J·W·范赫彭 ;

A·M·亚库林 .

中国专利 :CN101960338B ,2011-01-26

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