光刻设备中的光学元件的位置测量

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201780032606.5

申请日：

2017-05-24

公开(公告)号：

CN109154783A

公开(公告)日：

2019-01-04

发明(设计)人：

E.洛普斯特拉 E.A.F.范德帕施 S.布雷迪斯特尔 S.科西恩

申请人：

申请人地址：

德国上科亨

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

王蕊瑞

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-06-18	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20170524
2021-12-07	授权	授权
2019-01-04	公开	公开

共 50 条

[1]

光刻设备中的光学元件的位置测量 [P].

E.洛普斯特拉 ;

E.A.F.范德帕施 ;

S.布雷迪斯特尔 ;

S.科西恩 .

中国专利 :CN114236970A ,2022-03-25

[2]

位置测量方法、位置测量设备、光刻设备以及装置制造方法、光学元件 [P].

J·克洛泽 ;

A·登博夫 ;

S·马蒂杰森 .

中国专利 :CN104321703B ,2015-01-28

[3]

光刻术中辐射束斑的位置测量 [P].

F·皮特斯 ;

J·本斯乔普 ;

M·瑞肯斯 ;

G·范巴斯 ;

J·德克尔斯 .

中国专利 :CN103430101B ,2013-12-04

[4]

光学设备中的光学元件的温度测量 [P].

K·M·W·J·波斯 ;

约斯特·安德烈·克鲁格斯特 ;

A·阿南德 .

:CN117377912A ,2024-01-09

[5]

光刻设备和校准光刻设备的位置测量系统的方法 [P].

汤姆·范祖特芬 .

:CN120615179A ,2025-09-09

[6]

用于光刻设备的光学元件、包括这种光学元件的光刻设备以及制造该光学元件的方法 [P].

L·斯基马恩奥克 ;

V·班尼恩 ;

R·莫尔斯 ;

D·克鲁什考沃 ;

A·M·雅库尼恩 .

中国专利 :CN102089713B ,2011-06-08

[7]

用于光刻设备的光学元件支座 [P].

H·G·泰根波什克 ;

A·M·斯卓克肯 ;

J·克莱恩 ;

R·A·C·M·比伦斯 ;

I·范德瓦哈伦 .

中国专利 :CN102099745B ,2011-06-15

[8]

生产光刻设备的光学元件的方法 [P].

C·沃尔克 ;

V·托纳格尔 ;

S·克林哈默 ;

K·希尔德 ;

N·伦特 .

德国专利 :CN117428576A ,2024-01-23

[9]

位置测量系统和光刻设备 [P].

R·A·琼斯 ;

E·A·J·M·本特 .

:CN120112768A ,2025-06-06

[10]

位置测量系统和光刻设备 [P].

汉斯·布特勒 ;

恩格尔伯塔斯·安东尼斯·弗朗西斯克斯·范德帕什 .

中国专利 :CN101424513B ,2009-05-06

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